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致密超薄钯膜的制备及其性能研究 被引量:6
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作者 王焕章 吴立群 +1 位作者 徐南平 时钧 《南京化工大学学报》 2000年第5期5-10,共6页
根据金属Pd的自催化特性 ,采用改进的PCD法制备致密超薄钯膜 ,同时考察了氢分压和操作温度对钯膜氢渗透性能的影响以及氢渗透过程的操作稳定性。结果发现 ,对金属层厚度为 0 .3~ 0 .4μm的超薄Pd/TiO2 复合膜 ,773K时的氢渗透性为 6 .3... 根据金属Pd的自催化特性 ,采用改进的PCD法制备致密超薄钯膜 ,同时考察了氢分压和操作温度对钯膜氢渗透性能的影响以及氢渗透过程的操作稳定性。结果发现 ,对金属层厚度为 0 .3~ 0 .4μm的超薄Pd/TiO2 复合膜 ,773K时的氢渗透性为 6 .3× 10 -6mol·m-2 ·s-1·Pa-1,H2 /N2 的分离系数为 1140左右。氢渗透超薄钯膜的稳定时间为 80h左右 ,而且钯膜的氢渗透速率在 6 73~ 展开更多
关键词 超薄钯膜 氢气分离 分离器 反应器
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