超薄锗片粘蜡工艺研究

超薄锗片是制作多结空间太阳能电池的主要衬底材料,随着空间卫星技术的不断发展,对高质量超薄锗抛光片的需求量正在逐年增加。粘蜡抛光是获得高平整度抛光片的主要手段,也是未来超薄大尺寸锗单晶片加工的必然选择。从涂蜡参数、烘烤条件、翻转吸头和压头参数影响等方面,研究蜡层厚度及均匀性和粘蜡后表面形变问题,通过调整参数,重新设计翻转吸头,确定了适合超薄锗片的粘蜡工艺,获得了高平整度的锗抛光片。

化学腐蚀对超薄锗片机械强度的影响

随着锗太阳能光伏产业的发展,锗抛光片得到了广泛的应用。机械强度对锗衬底抛光片的质量和成品率有着重要的影响,采用化学腐蚀工艺,通过酸碱腐蚀实验的开展以及腐蚀温度、腐蚀液配比的控制,确立了提高锗单晶片机械强度的化学腐蚀工艺,腐蚀后晶片表面均匀,磨削纹路清晰可见,TTV小于3μm,机械强度为31～40N,完全满足应用要求。