改善场发射扫描电镜分辨本领的原理和展望

本文讨论了改善场发射扫描电镜分辨本领的原理。分析结果表明 ,仪器的分辨本领主要依赖于物镜的球像差系数 Cs。如果等效球像差系数能降低到 0 .1× 10 -2 cm的水平 ,则二次电子像的分辨本领为 0 .3 2 2 nm(当扫描电子束的加速电压 VA=3 0 k V)。此外 ,在 Cs=0和扫描电子束的半开角 α=5× 10 -2 rad,本文估计场发射扫描电镜的极限分辨本领可望达到 0 .178nm(当 VA=3 0 k V)。

提高热场扫描电镜能谱空间分辨率的方法研究

本文采用薄片法原理,设计出已获专利授权的新型扫描电镜载样装置,并将其安装在扫描电镜中,对分散为薄层的混合纳米材料进行元素分布测试。应用热场电镜能谱(SDD)系统具有的稳定可变束流、高计数率等优点,在相同的实验条件下与冷场扫描电镜能谱(Si(Li))系统进行对比。实验结果说明:较传统方法,采用新方法提升了电镜能谱的空间分辨率,而且热场优于冷场的水平,元素分布的识别效果得到显著提高,热场电镜能谱的分析领域得到完善。该方法也为应用热场电镜能谱对纳米材料进行成分分析提供了新的思路。

探针电流对场发射扫描电镜图像的影响

通过对电镜工作原理的研究,分析了不同探针电流对电镜图像分辨率、景深、荷电现象的影响因素,总结了选择最佳探针电流的原则。探针电流升高,束斑直径变大,信噪比变好,但图像分辨率下降,景深减小,荷电现象增强;探针电流降低,束斑直径减小,分辨率增高,景深增加,有利于减弱荷电现象,但是探针电流过小,噪声增大,聚焦困难,图像分辨率反而下降。实验表明,结合样品的特征,灵活地选择探针电流能显著地提高电镜图像质量。

基于场发射扫描电镜和Image J的锂电池隔膜孔隙率研究

通过对场发射扫描电镜(FESEM)条件的优化得到超高分子量聚乙烯(UHMWPE)锂电池隔膜表面清晰电镜图,然后用Image J软件处理得到孔隙分布图,运用膜孔隙率计算公式,成功获取锂电池隔膜表面膜孔的孔隙率。结果表明:通过FESEM和Image J软件相结合的方法可以形象地对锂电池隔膜的孔隙率进行表征,得到的孔隙率变异系数为6.36%,平均孔隙率为41.07%。

JEOL发布新一代通用型场发射扫描电镜

2015年8月10日，日本电子株式会社（JEOL）全球同步推出新一代通用型场发射扫描电镜JSM-7200F。该机型采用世界上最先进的场发射扫描电镜JSM-7800FPrime使用的浸没式高亮度电子枪，在保证分辨率和电子枪寿命的同时，将束流提高到300hA，可以大大增加能谱，WDS，EBSD和阴极发光等附件的分析效率和空间分辨率。

Nova NanoSEM超高分辨率扫描电子显微镜

现代科学技术，特别是纳米技术、半导体等领域的高速发展对微观观察、表征和分析工具提出更高的、更苛刻的要求。目前的场发射扫描电子显微镜对新的应用要求面临越来越多难以克服的障碍，如：样品表面对电子束特别敏感，样品表面容易产生污染，样品不允许进行表面处理，样品上导电材料和非导电材料并存，等等。

高分辨扫描电子显微学

本文区分了三种扫描电镜．即普通电子枪扫描电镜．场发射电子枪扫描电镜以及场发射枪低象差物镜扫描电镜；指出．了后两种扫描电镜对高分辨扫描电子显微学的重要意义。详细评述了高分辨扫描电子显微学中的电子范围的概念，二次电子的发射特性．二次电子象中所包含的信息以及高分辨率下试样表面导电膜的喷涂的要求和方法。

攀钢研究院测试分析再添新利器 高分辨率场发射扫描电镜成功验收

(3月4日消息)为打造国内一流高端分析测试平台,更好的助力科研生产。近日,攀钢研究院分析测试中心于2018年底新引进的设备Zeiss Sigma500高分辨率场发射扫描电镜完成验收,将正式投入使用。此台设备是采用成熟的Gemini电子光学系统设计,二次电子分辨率超过0.8 nm,理论放大倍数高达100万倍。

日本日立公司场发射扫描电镜特征分辨率达0．9nm

日本日立高新技术公司发布新款“Regulus系列”（包括四种机型：Regulus8100、Regulus8220、Regulus8220和Regulus8220）场发射扫描电镜，其分辨率和操作性的强化使其具有更强大的功能。

核壳型SAPO-34/AlPO-18分子筛的制备及生长机理

采用水热法制备了核壳型SAPO-34/AlPO-18分子筛,并运用X射线衍射、扫描电镜和超高分辨场发射扫描电镜等方法对样品进行了表征.结果表明,通过改变实验条件可有效调控壳层AlPO-18纳米晶在SAPO-34晶体表面的生长,从而得到具有不同生长区域、生长取向及紧密度的核壳型SAPO-34/AlPO-18分子筛.超高分辨场发射扫描电镜结果发现,核相SAPO-34晶体的外表面结构与壳层AlPO-18纳米晶的生长性质紧密相关,从而推测出核相晶体外表面微细结构诱导壳层分子筛生长的晶化机理.

电子显微镜时代与纳米地球科学

光学显微镜的广泛运用,扩展了观察认识地球固体物质组成、结构、构造的视野,促使地球科学从简单描述走向理论研究,催生了地球科学的第一次革命;21世纪地球科学研究全面向地球表层转移,迫切需要认识地球物质纪录的纳米尺度信息;现代电子显微镜在地球科学中的广泛运用,催生了纳米地球科学的诞生。纳米地球科学诞生推动地球科学家将从纳米尺度解读过去所未知的固体地球演代过程的信息;纳米地球科学的兴起将引起地球科学的一场新的革命。

液化石油气燃烧火焰制备一维碳纳米材料

本文利用民用液化石油气为碳源,在经过预处理的低碳钢和含Ni合金钢等基板上成功地制备出"空心"碳纳米管(CNTs)和"实心"碳纳米纤维(CNFs)等一维碳纳米材料。实验发现基板预处理对一维碳纳米材料的制备起着决定性的作用,如:机械研磨预处理时很难制备出一维碳纳米材料,而采用涂覆和电镀处理则很容易获得一维碳纳米材料。利用场发射枪高分辨扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和激光拉曼光谱(RS)等技术对碳纳米材料的结构进行了表征。从本实验可以预见,制备一维碳纳米材料将变得更简单,更经济。

高性能阴极荧光分析系统及其在氮化物半导体材料研究中的应用

本文介绍由场发射环境扫描电镜和高性能阴极荧光谱仪构成的联合分析系统。该系统在图像质量、图像空间分辨、阴极荧光成像及光谱分析等方面具有优越的性能。利用这一系统对氮化物半导体材料的微观特征、器件结构和光学性能的相互关系进行研究,获得许多有意义的结果。

应用X射线衍射-红外光谱等技术研究滑石在机械力研磨中的形貌和晶体结构变化及影响机制

滑石的颗粒粒径、形貌、晶型等对其应用的实效性、终端产品的性能产生极大影响,目前主要研究其表面改性,而有关微观形貌及晶体结构研究较少。本文利用X射线荧光光谱、X射线衍射分析、红外光谱、粒度分析仪结合高分辨场发射扫描电镜(FE-SEM)技术对辽宁滑石粉在高强度机械力研磨作用下的微形貌和晶体结构变化特征进行系统研究。结果表明滑石粉原矿混合物中MgO与SiO2的分子个数比约为0.45,该数值明显低于纯滑石粉晶体中MgO与SiO2的分子个数比0.75。此类滑石为典型的单斜晶系,研磨作用使滑石粉由晶态转变为非晶态结构,其层状结构的有序化和键合作用发生了明显的变化。滑石粒度随研磨时间变化呈现减小-增大-减小的循环过程。研磨后粉体形貌存在差异,细化的小颗粒粉体因团聚而呈"准球体",且随着研磨的进行出现细化-团聚-细化的反复过程。此结论对于滑石的深加工与应用及其相关矿物粉体的研究具有一定的参考价值。

龙马溪组页岩不同显微形态有机质成因及其勘探潜力探讨

有机质是页岩中最重要的组分,有机孔更是页岩气重要的储集空间,以扫描电镜为主流的微观分析检测技术成为页岩研究的重要手段,目前对有机质的综合研究正逐步成为页岩气勘探开发研究的重要内容。本次研究选取四川盆地及其外围龙马溪组富有机质页岩,采用氩离子抛光非镀膜样品,利用低电压近距离工作状态,对样品进行了高分辨率场发射扫描电镜检测,观察、总结了有机质显微形态,并依据其内部结构及组成特征对其生烃及储集能力进行了探讨。检测结果揭示:龙马溪组富有机质页岩中有机质主要有三种显微形态,分别是结构型沉积有机质、分异型交生有机质和填隙型运移有机质。结构型沉积有机质形成于沉积及早期成岩演化阶段,保留了部分生物结构特征或沉积定向构造;分异型交生有机质与黏土矿物交互生长并经历演化分异作用,形成了类似于岩浆岩中的“花岗结构”;而填隙型运移有机质形成于晚成岩有机质高演化阶段,为液态烃充填于自生矿物晶间,其周边矿物具有自形特征。龙马溪组页岩以填隙型运移有机质和分异型交生有机质为主,二者都发育丰富的有机质孔隙(孔径10~300nm),是龙马溪组页岩优质的生气母质,并具有优质的储集性能。研究结果为我国海相龙马溪组页岩气生成理论及勘探开发评价提供了较深层次的微观信息。

电子光学

TN16 98042768高分辨二次电子像中的成分衬度=Composition con-trast in high resolution secondary electron im-age[刊,中]/徐军,陈文雄,张会珍(北京大学电子显微镜实验室.北京(100871))∥电子显微学报.—1997,16(1).

胜科纳米参展NEPCON西部电子展

胜科纳米是世界顶尖的独立第三方实验室，其材料分析和失效分析实验室配备了全套的高端分析仪器，并搭建起了开放式的专业分析平台，拥有世界一流的实验室设备，如：高分辨透射电镜（HR-TEM）,双束聚焦离子束（Dual Beam FIB），场发射扫描电镜（FE-SEM），飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS），动态二次离子质谱仪（D-SIMS），X 射线光电子能谱仪（XPS/ESCA）等。胜科纳米拥有众多的专家级分析人员，均拥有十多年海外从业经历,且非常熟悉相关工艺流程，具有超强的设计、试验及分析能力。提供7天24小时不间断的一站式服务，随时为贵公司项目及产品的研发、生产、客服提供最专业最快捷的分析报告。

终端设备与显示设备

SPIE-Vol.3689 01060241999年 SPIE 会议录,卷3689:头盔式显示器(4)=1999 proceedings of SPIE.Vol.3689:helmet-and head-mounted displays Ⅳ[会,英]/SPIE-The InternationalSociety for Optical Engineering.—1999.—294P.(PC)本会议录收集了于1999年4月5～6日在美国佛罗里达奥兰多召开的头盔式显示器专题讨论会上发表的30多篇文章。内容涵盖子系统对头盔式显示器(HMD)的影响,HMD 特征、性能与人的因素。