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IC封装基板超高精细线路制造工艺进展
被引量:
12
1
作者
周文木
徐杰栋
+2 位作者
吴梅珠
吴小龙
刘秋华
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第2期6-9,15,共5页
概述了目前超高精细线路制作的减成法、加成法、半加成法。针对减成法在倒装芯片球栅阵列封装和倒装芯片级封装积层精细线路制造中存在的缺点,重点介绍了超高精细线路半加成及改进的半加成工艺,并从精细线路制造角度分析了曝光、快速蚀...
概述了目前超高精细线路制作的减成法、加成法、半加成法。针对减成法在倒装芯片球栅阵列封装和倒装芯片级封装积层精细线路制造中存在的缺点,重点介绍了超高精细线路半加成及改进的半加成工艺,并从精细线路制造角度分析了曝光、快速蚀刻等关键流程,展望了后续超高精细线路半加成工艺的发展方向。
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关键词
IC封装基板
超高精细线路
综述
半加成法
图形转移
曝光
快速蚀刻
原文传递
题名
IC封装基板超高精细线路制造工艺进展
被引量:
12
1
作者
周文木
徐杰栋
吴梅珠
吴小龙
刘秋华
机构
江南计算技术研究所
出处
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第2期6-9,15,共5页
基金
国家科技重大专项课题资助项目(No.2011ZX02709-002)
文摘
概述了目前超高精细线路制作的减成法、加成法、半加成法。针对减成法在倒装芯片球栅阵列封装和倒装芯片级封装积层精细线路制造中存在的缺点,重点介绍了超高精细线路半加成及改进的半加成工艺,并从精细线路制造角度分析了曝光、快速蚀刻等关键流程,展望了后续超高精细线路半加成工艺的发展方向。
关键词
IC封装基板
超高精细线路
综述
半加成法
图形转移
曝光
快速蚀刻
Keywords
IC package substrate
ultra-fine lines
review
semi-additive process
pattern transfer
exposure
flashetching
分类号
TN454 [电子电信—微电子学与固体电子学]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
IC封装基板超高精细线路制造工艺进展
周文木
徐杰栋
吴梅珠
吴小龙
刘秋华
《电子元件与材料》
CAS
CSCD
北大核心
2014
12
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