期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
对称薄膜双栅nMOSFET模型的研究 被引量:1
1
作者 叶晖 李伟华 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期419-422,共4页
 利用对称薄膜双栅MOSFET在阈值电压附近硅膜中的常电位近似,以硅膜达到体反型时的泊松方程为基础,得到一个有效的双栅nMOS器件模型。考虑到薄膜双栅SOI器件的体反型特性,阈值电压处的表面势不再受限于传统的强反型界限(指2倍费米势),...  利用对称薄膜双栅MOSFET在阈值电压附近硅膜中的常电位近似,以硅膜达到体反型时的泊松方程为基础,得到一个有效的双栅nMOS器件模型。考虑到薄膜双栅SOI器件的体反型特性,阈值电压处的表面势不再受限于传统的强反型界限(指2倍费米势),并运用跨导最大变化(TC)法对此模型进行分析,得到阈值电压和阈值电压处表面势的详细表达式;另外,还演示了薄膜双栅MOSFET的近乎完美的亚阈值斜率特性,其数值模拟结果与文献实验结果吻合较好。 展开更多
关键词 薄膜双栅 MOSFET 器件模型 跨导最大变化法 强反型界限
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部