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Mo/Cu TES超导性能表征
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作者 张宏俊 文继 +3 位作者 莫钊洪 王新明 熊忠华 帅茂兵 《核电子学与探测技术》 CAS 北大核心 2020年第1期33-38,共6页
为了制备满足超高分辨率射线探测要求的超导转变边界探测器,对制备的Mo薄膜和Mo/Cu薄膜表征了其超导电学特性.结果表明,制备的Mo薄膜具有较好的超导性能,Mo/Cu薄膜的△T达到了2.1 mK@352 mK,α值达到了335.在1 mA的电流下,该α值可以满... 为了制备满足超高分辨率射线探测要求的超导转变边界探测器,对制备的Mo薄膜和Mo/Cu薄膜表征了其超导电学特性.结果表明,制备的Mo薄膜具有较好的超导性能,Mo/Cu薄膜的△T达到了2.1 mK@352 mK,α值达到了335.在1 mA的电流下,该α值可以满足超高分辨射线探测的要求. 展开更多
关键词 超高分辨率 γ射线探测 超导薄膜 转变边界探测器
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