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基于软刻印技术的微透镜阵列制作
1
作者
吴非
《真空电子技术》
2011年第1期33-35,共3页
有机电致发光从最初进行的研究直到今天,在许多方面都有了很大的突破,但目前仍存在一些困难,例如器件的寿命就是比较关键的问题。如果器件具有较高的发光效率,便可在出射光子数相同的情况下,减少电子数的注入,从而降低了器件的焦耳热,...
有机电致发光从最初进行的研究直到今天,在许多方面都有了很大的突破,但目前仍存在一些困难,例如器件的寿命就是比较关键的问题。如果器件具有较高的发光效率,便可在出射光子数相同的情况下,减少电子数的注入,从而降低了器件的焦耳热,提高器件的寿命。利用微透镜提高器件的外量子效率可以取得明显的效果。本文利用软刻印技术制作了聚二甲基硅氧烷微透镜阵列。
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关键词
有机电致发光
软刻印
微透镜阵列
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职称材料
波导多层只读光卡及其软刻印制作方法研究
被引量:
3
2
作者
顾敏芬
梁忠诚
+4 位作者
丁冬艳
周晓红
陈林森
陈家璧
庄松林
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第2期164-166,共3页
将波导多层存储与光卡存储技术相结合,提出了一种波导多层光卡存储器的结构方案和软刻印制作方法。采用折射率高的薄波片作为芯层材料、折射率低的透明硅橡胶作为包层材料,利用软刻印方法将信息复制在硅橡胶表面,制作出10层光卡。信息...
将波导多层存储与光卡存储技术相结合,提出了一种波导多层光卡存储器的结构方案和软刻印制作方法。采用折射率高的薄波片作为芯层材料、折射率低的透明硅橡胶作为包层材料,利用软刻印方法将信息复制在硅橡胶表面,制作出10层光卡。信息检测结果表明,每一层数据清晰可见,相邻层间无明显干扰。
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关键词
光存储
波导多层
光卡
软刻印
原文传递
纳米器件的一种新制造工艺——纳米压印术
被引量:
7
3
作者
梁迎新
王太宏
《微纳电子技术》
CAS
2003年第4期2-7,共6页
纳米压印术可以用于大批量重复性地制备纳米图形结构。此项技术具有操作简单、分辨率高、重复性好、费时少,成本费用极低等优点。本文介绍了较早出现的软刻印术的两种方法———微接触印刷法和毛细管微模制法。详细讲述了纳米压印术(主...
纳米压印术可以用于大批量重复性地制备纳米图形结构。此项技术具有操作简单、分辨率高、重复性好、费时少,成本费用极低等优点。本文介绍了较早出现的软刻印术的两种方法———微接触印刷法和毛细管微模制法。详细讲述了纳米压印术(主要指热压雕版压印法)的各步工序———压模制备、压印过程和图形转移,以及用于压印的设备、纳米图案所达到的精确度等,还简述了纳米压印术的另一方法———步进-闪光压印法。最后,通过范例介绍了纳米压印术在制作电子器件、CD存储器和磁存储器、光电器件和光学器件、生物芯片和微流体器件等方面的应用。
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关键词
纳米器件
纳米压印术
制造工艺
纳米图案
软刻印
术
热压雕版压印法
步进-闪光压印法
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职称材料
题名
基于软刻印技术的微透镜阵列制作
1
作者
吴非
机构
成都电子机械高等专科学校
出处
《真空电子技术》
2011年第1期33-35,共3页
文摘
有机电致发光从最初进行的研究直到今天,在许多方面都有了很大的突破,但目前仍存在一些困难,例如器件的寿命就是比较关键的问题。如果器件具有较高的发光效率,便可在出射光子数相同的情况下,减少电子数的注入,从而降低了器件的焦耳热,提高器件的寿命。利用微透镜提高器件的外量子效率可以取得明显的效果。本文利用软刻印技术制作了聚二甲基硅氧烷微透镜阵列。
关键词
有机电致发光
软刻印
微透镜阵列
Keywords
OLED
Soft-lithography
Microlens array
分类号
TN141 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
波导多层只读光卡及其软刻印制作方法研究
被引量:
3
2
作者
顾敏芬
梁忠诚
丁冬艳
周晓红
陈林森
陈家璧
庄松林
机构
南京师范大学江苏省光电技术重点实验室
苏州大学信息光学工程研究所
上海理工大学光学与电子信息工程学院
出处
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第2期164-166,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(60377006)
上海市科委光科技专项资助项目(036105033)
文摘
将波导多层存储与光卡存储技术相结合,提出了一种波导多层光卡存储器的结构方案和软刻印制作方法。采用折射率高的薄波片作为芯层材料、折射率低的透明硅橡胶作为包层材料,利用软刻印方法将信息复制在硅橡胶表面,制作出10层光卡。信息检测结果表明,每一层数据清晰可见,相邻层间无明显干扰。
关键词
光存储
波导多层
光卡
软刻印
Keywords
optical storage
waveguide multilayer
optical card
soft lithography
分类号
TN252 [电子电信—物理电子学]
原文传递
题名
纳米器件的一种新制造工艺——纳米压印术
被引量:
7
3
作者
梁迎新
王太宏
机构
中国科学院物理研究所
出处
《微纳电子技术》
CAS
2003年第4期2-7,共6页
基金
国家重点基础研究专项经费
自然科学基金资助课题(69925410和19904015)
文摘
纳米压印术可以用于大批量重复性地制备纳米图形结构。此项技术具有操作简单、分辨率高、重复性好、费时少,成本费用极低等优点。本文介绍了较早出现的软刻印术的两种方法———微接触印刷法和毛细管微模制法。详细讲述了纳米压印术(主要指热压雕版压印法)的各步工序———压模制备、压印过程和图形转移,以及用于压印的设备、纳米图案所达到的精确度等,还简述了纳米压印术的另一方法———步进-闪光压印法。最后,通过范例介绍了纳米压印术在制作电子器件、CD存储器和磁存储器、光电器件和光学器件、生物芯片和微流体器件等方面的应用。
关键词
纳米器件
纳米压印术
制造工艺
纳米图案
软刻印
术
热压雕版压印法
步进-闪光压印法
Keywords
nanometer-scaled pattern
soft lithography
nanoimprint lithography
hot embossing imprint lithography
step-and-flash lithography
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于软刻印技术的微透镜阵列制作
吴非
《真空电子技术》
2011
0
下载PDF
职称材料
2
波导多层只读光卡及其软刻印制作方法研究
顾敏芬
梁忠诚
丁冬艳
周晓红
陈林森
陈家璧
庄松林
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
3
原文传递
3
纳米器件的一种新制造工艺——纳米压印术
梁迎新
王太宏
《微纳电子技术》
CAS
2003
7
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
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