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软刻蚀技术及其应用 被引量:6
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作者 陈长琦 王艳 +1 位作者 王旭迪 汪力 《真空》 CAS 北大核心 2003年第6期11-14,共4页
软刻蚀是通过表面带图案的弹性模板来实现图案的转移的图形复制技术,作为非光刻微米和纳米量级微加工方法,加工的分辨率可以达到5nm100μm,它克服了传统光刻技术的缺陷,为形成和制作平面和曲面上的微米和纳米图案提供了简便、有效的低... 软刻蚀是通过表面带图案的弹性模板来实现图案的转移的图形复制技术,作为非光刻微米和纳米量级微加工方法,加工的分辨率可以达到5nm100μm,它克服了传统光刻技术的缺陷,为形成和制作平面和曲面上的微米和纳米图案提供了简便、有效的低成本途径。本文将主要介绍微接触印刷、近场光刻蚀、纳米压印等软刻蚀方法的原理、方法以及面临的问题,并简介了它们在微米和纳米加工、微电子学、材料科学、光学、微电子机械系统、表面化学等方面应用。 展开更多
关键词 软刻蚀 图形复制技术 微接触印刷 近场光刻蚀 纳米压印
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薄层软刻蚀法制备PMMA微图案结构 被引量:3
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作者 刘建平 石锦霞 +2 位作者 杨小敏 何平笙 杨海洋 《高分子学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第1期42-46,共5页
对现有的软刻蚀方法提出了改进,让其与压印技术及毛细力刻蚀技术相结合形成一种薄层软刻蚀技术,并以这种技术制备出PMMA薄膜微图案化结构.在30 mm/h的拉膜速度以及弹性印章表面图形深度确定不变的情况下,PMMA流体能够完全填充到弹性印... 对现有的软刻蚀方法提出了改进,让其与压印技术及毛细力刻蚀技术相结合形成一种薄层软刻蚀技术,并以这种技术制备出PMMA薄膜微图案化结构.在30 mm/h的拉膜速度以及弹性印章表面图形深度确定不变的情况下,PMMA流体能够完全填充到弹性印章的微通道中,SEM和光学显微镜照片证明得到的PMMA微图案是相互分离的.因此,薄层软刻蚀技术可以克服普通微模塑方法制备分离图形困难和纳米压印技术中需要使用巨大机械压力的缺点. 展开更多
关键词 薄层软刻蚀 聚甲基丙烯酸甲酯 微结构
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陶瓷微器件的软刻蚀成形研究进展 被引量:2
3
作者 苏博 吴有智 +1 位作者 孟军虎 吕晋军 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2013年第4期621-626,共6页
软刻蚀技术是基于传统光刻蚀技术提出的一系列技术,包括微模塑、转移微模塑和毛细微模塑等,其共同特点是利用弹性模作为微结构转移元件,复制其他方法制备的原始模板的微结构,再用此弹性模进行微结构的成形。因其成本低廉、操作过程简单... 软刻蚀技术是基于传统光刻蚀技术提出的一系列技术,包括微模塑、转移微模塑和毛细微模塑等,其共同特点是利用弹性模作为微结构转移元件,复制其他方法制备的原始模板的微结构,再用此弹性模进行微结构的成形。因其成本低廉、操作过程简单,为陶瓷微器件的制备提供了一种先进的净成形加工技术。其工艺步骤主要包括:弹性模的制备、浆料或陶瓷预聚体的制备、注模、干燥(交联固化)、脱模和烧结。本文按照制备工艺综述了软刻蚀技术成形陶瓷微器件的研究进展,着重讨论了影响微成形的关键因素,并对将来的研究方向进行了展望。 展开更多
关键词 软刻蚀 陶瓷微器件 弹性模
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基于软刻蚀技术的微三维结构加工方法研究 被引量:1
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作者 卢文娟 张玉林 +1 位作者 孔祥东 郝惠娟 《微纳电子技术》 CAS 2007年第10期957-959,963,共4页
软刻蚀是通过表面带有图案的弹性模板来实现图案转移的图形复制技术,弹性印章是软刻蚀技术的核心。简单介绍了软刻蚀技术,使用SDS-3型电子束曝光机,采用重复增量扫描方式进行曝光,生成弹性印章的母版,将其硅烷化后用以制作弹性印章,再... 软刻蚀是通过表面带有图案的弹性模板来实现图案转移的图形复制技术,弹性印章是软刻蚀技术的核心。简单介绍了软刻蚀技术,使用SDS-3型电子束曝光机,采用重复增量扫描方式进行曝光,生成弹性印章的母版,将其硅烷化后用以制作弹性印章,再利用软刻蚀技术可进行微图形的复制,得到微三维结构。显影后得到轮廓清晰的三维结构,证明将电子束重复增量扫描曝光方式与软刻蚀技术相结合可为制作微三维结构提供一种简单、有效的低成本途径。 展开更多
关键词 软刻蚀技术 弹性印章 重复增量扫描方式 电子束光刻 微三维加工
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软刻蚀——图形转移和微制造新工艺 被引量:17
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作者 潘力佳 何平笙 《微细加工技术》 2000年第2期1-7,共7页
:“软刻蚀”是相对于微制造领域中占据主导地位的刻蚀而言的微图形转移和微制造的新方法 ,总的思路就是把用昂贵设备生成的微图形通过中间介质进行简便而又精确的复制 ,提高微制作的效率 ,包括微接触印刷 ,毛细微模塑 ,溶剂辅助的微模... :“软刻蚀”是相对于微制造领域中占据主导地位的刻蚀而言的微图形转移和微制造的新方法 ,总的思路就是把用昂贵设备生成的微图形通过中间介质进行简便而又精确的复制 ,提高微制作的效率 ,包括微接触印刷 ,毛细微模塑 ,溶剂辅助的微模塑 ,转移微模塑 ,微模塑 ,近场光刻蚀等。这些方法工艺简单 ,对实验室条件要求不高 ,又能在曲面上进行操作 。 展开更多
关键词 软刻蚀 图形转移 微制造工艺
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软刻蚀复制技术制作聚合物微透镜阵列
6
作者 赵悦 赖建军 +2 位作者 史锡婷 易新建 张坤 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2005年第B03期111-114,共4页
介绍了利用软刻蚀紫外模塑技术制作复制聚合物折射和衍射微透镜阵列的工艺过程。实验过程和测试结果表明,聚二甲基硅氧烷(PDMS)模具可以完好地将母版上的微透镜阵列复制到硅或玻璃材料上的光敏胶上,并可多次使用,且母版无损伤。此技... 介绍了利用软刻蚀紫外模塑技术制作复制聚合物折射和衍射微透镜阵列的工艺过程。实验过程和测试结果表明,聚二甲基硅氧烷(PDMS)模具可以完好地将母版上的微透镜阵列复制到硅或玻璃材料上的光敏胶上,并可多次使用,且母版无损伤。此技术具有速度快,工艺简单的特点,可用于微透镜与图像传感器的单片集成。 展开更多
关键词 微透镜 聚合物 紫外模塑 软刻蚀
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用软刻蚀制备组织工程3D聚合物微结构(英文)
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作者 郭希山 郑茜茜 +1 位作者 吴坚 王立人 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第10期2178-2181,共4页
软刻蚀制备组织工程3D可生物降解、生物相容性好的几何图案聚合物微结构,方法简单,使用聚二甲基硅氧烷(PDMS)作为弹性铸膜.高分辨率透明掩膜图案用CorelDraw软件绘制并用高分辨率行式打印在塑料片上.制备微结构的聚合物材料为摩尔比85/1... 软刻蚀制备组织工程3D可生物降解、生物相容性好的几何图案聚合物微结构,方法简单,使用聚二甲基硅氧烷(PDMS)作为弹性铸膜.高分辨率透明掩膜图案用CorelDraw软件绘制并用高分辨率行式打印在塑料片上.制备微结构的聚合物材料为摩尔比85/15的聚乳酸/乙醇酸(PLGA)共聚物,对其进行预处理使之具有适当的硬度和柔韧性.用铸造、旋涂两种成模方法制备形体尺寸为10~100μm的PLGA肢手架.对影响肢手架结构完整及横向分辨率的因素进行了讨论和优化,并对两种成型方法的横向、纵向分辨率进行了比较.作为脚手架在组织工程上应用的概念验证,用热层压方法制造用于细胞培养的多层聚合物结构.实验结果表明,软刻蚀技术提供了一种实现组织工程微尺度3D聚合物结构的有效工具. 展开更多
关键词 微制造 软刻蚀 聚合物结构 组织工程
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一种侧链型偶氮液晶聚合物的RAFT合成及其微图形的软刻蚀制备(英文)
8
作者 高建纲 虞少波 +3 位作者 郑本陪 史文华 张其锦 刘建平 《中国科学技术大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期123-131,共9页
通过RAFT聚合方法制备了一种侧链型偶氮液晶聚合物PCN2,并通过紫外-可见吸收光谱、红外光谱、核磁共振氢谱、凝胶色谱、差示扫描量热等方法对其结构和性质进行了表征.利用软刻蚀中的溶剂辅助微模塑技术制备了3类不同形貌的聚合物微图形... 通过RAFT聚合方法制备了一种侧链型偶氮液晶聚合物PCN2,并通过紫外-可见吸收光谱、红外光谱、核磁共振氢谱、凝胶色谱、差示扫描量热等方法对其结构和性质进行了表征.利用软刻蚀中的溶剂辅助微模塑技术制备了3类不同形貌的聚合物微图形,并通过光学显微镜、扫描电镜进行了观察.结果表明,RAFT聚合得到的PCN2分子量分布为1.22,溶剂辅助微模塑法制备的聚合物微图形结构完整、精细度和保真度较高,有望在具有特殊结构和功能的高分子材料开发中得到应用. 展开更多
关键词 侧链型液晶聚合物 RAFT聚合 溶剂辅助微模塑 软刻蚀 微图形
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软刻蚀技术 被引量:1
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作者 王奕 《宿州教育学院学报》 2006年第5期108-109,111,共3页
软刻蚀是通过表面带图案的弹性模板来实现图案的转移的图形复制技术,为形成和制作平面和曲面上的微米和纳米图案提供了简便、有效的低成本途径。软刻蚀是微接触印刷、复制模塑、转移微模塑、毛细微模塑、溶剂辅助微模塑等的总称。本文... 软刻蚀是通过表面带图案的弹性模板来实现图案的转移的图形复制技术,为形成和制作平面和曲面上的微米和纳米图案提供了简便、有效的低成本途径。软刻蚀是微接触印刷、复制模塑、转移微模塑、毛细微模塑、溶剂辅助微模塑等的总称。本文将主要介绍软刻蚀技术原理、方法以及应用。 展开更多
关键词 软刻蚀 微接触印刷 微模塑 毛细微模塑 近场光刻蚀 弹性模板
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用于软刻蚀复型及转印前后形貌比较的反向重定位AFM成像方法
10
作者 唐雨钊 周虹杉 +4 位作者 张峰 吴志华 张晓东 孙洁林 胡钧 《电子显微学报》 CAS CSCD 2006年第6期472-476,共5页
软刻蚀技术运用聚二甲基硅氧烷(Poly dimethylsiloxane,PDMS)等聚合物材料制备弹性图章,并用制备好的图章转印图形结构至特定基底。在很多情况下需对模板和弹性图章、图章与转印图形同一位置的形貌进行表征。基于原子力显微镜观测的反... 软刻蚀技术运用聚二甲基硅氧烷(Poly dimethylsiloxane,PDMS)等聚合物材料制备弹性图章,并用制备好的图章转印图形结构至特定基底。在很多情况下需对模板和弹性图章、图章与转印图形同一位置的形貌进行表征。基于原子力显微镜观测的反向重定位技术提供了一种微观区域内对二维平面互为镜像关系的两种样品的原位对比观测方法。本文利用坐标实时显示的程控高精度样品台系统,联合使用非对称表面标记及坐标镜像复制的定位法,实现了对样品的精确反向重定位成像。 展开更多
关键词 原子力显微镜 反向重定位 软刻蚀 表面标记坐标系 高精度样品台系统
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聚焦离子束刻蚀制造三维软刻蚀母模板的研究
11
作者 秦美霞 张继成 +2 位作者 易勇 曾勇 王红斌 《西南科技大学学报》 CAS 2015年第3期81-84,共4页
研究了一种基于聚焦离子束(FIB)刻蚀法制备软刻蚀用母模板的新方法。该方法采用FIB刻蚀技术在Si基底上制备出15μm×15μm的轮廓清晰的三维结构作为弹性印章的母模板,三甲基氯硅烷(TMCS)作为抗黏连层旋涂于Si基底表面,其后旋涂聚二... 研究了一种基于聚焦离子束(FIB)刻蚀法制备软刻蚀用母模板的新方法。该方法采用FIB刻蚀技术在Si基底上制备出15μm×15μm的轮廓清晰的三维结构作为弹性印章的母模板,三甲基氯硅烷(TMCS)作为抗黏连层旋涂于Si基底表面,其后旋涂聚二甲基硅氧烷(PDMS)预聚物复制模铸出与Si基底相反的微三维结构。通过接触角测量仪检测Si样品表面疏水性能,并用原子力显微镜(AFM)对PDMS样品形貌进行检测。研究结果表明,特征图形得到了很好的转移。该方法相对于传统软刻蚀母模板制备方法,加工的三维结构具有操作步骤简单、制备周期短的特点,是一种有效的制备软刻蚀母模板方法。 展开更多
关键词 聚焦离子束(FIB) 软刻蚀技术(SL) 三维加工 聚二甲基硅氧烷(PDMS) 模板
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电子束光刻制造软刻蚀用母板的研究 被引量:2
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作者 卢文娟 张玉林 +1 位作者 孔祥东 郝惠娟 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期788-791,共4页
使用通用电子束曝光机,采用一种新的电子束微三维加工的重复增量扫描方式进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的微三维结构,以此为制作弹性印章的母模板,经硅烷化后可用来制作弹性印章,得到弹性印章后便可再利用软刻蚀相关技术进行微图形... 使用通用电子束曝光机,采用一种新的电子束微三维加工的重复增量扫描方式进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的微三维结构,以此为制作弹性印章的母模板,经硅烷化后可用来制作弹性印章,得到弹性印章后便可再利用软刻蚀相关技术进行微图形的复制。曝光实验的结论表明采用电子束重复增量扫描方式可用来制作微三维弹性印章的母版。 展开更多
关键词 电子束光刻 软刻蚀技术 母板 弹性印章 微三维加工
原文传递
软刻蚀及其应用 被引量:3
13
作者 王喆 邢汝博 +1 位作者 韩艳春 李滨耀 《化学通报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第9期606-613,共8页
软刻蚀是一类基于自组装和复制模塑等原理的非光刻微米和纳米加工方法。它为形成和制作微米、纳米图案提供了简便、有效、价廉的途径。在软刻蚀中 ,用一个表面带图案的弹性模板来实现图案的转移 ,其加工的分辨率可达 3 0nm~ 1 0 0 μm... 软刻蚀是一类基于自组装和复制模塑等原理的非光刻微米和纳米加工方法。它为形成和制作微米、纳米图案提供了简便、有效、价廉的途径。在软刻蚀中 ,用一个表面带图案的弹性模板来实现图案的转移 ,其加工的分辨率可达 3 0nm~ 1 0 0 μm。软刻蚀是微接触印刷、复制模塑、转移微模塑、毛细微模塑、溶剂辅助微模塑等的总称。本文将简介软刻蚀的原理、方法以及它们在微米和纳米加工、微电子学、材料科学、光学、微电子机械系统、表面化学等方面的应用。 展开更多
关键词 半导体 光刻 软刻蚀 微米加工 纳米加工 图案化 弹性模板 微电子技术 印章
原文传递
仿生超疏水表面的制备及润湿性研究 被引量:17
14
作者 郑傲然 周明 杨加宏 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期1874-1876,1883,共4页
对植物叶表面的超疏水现象研究表明:植物叶表面的微观结构是引起超疏水的根本原因。设计并利用软刻蚀技术制备了一系列不同参数的光栅微结构表面,对水滴在这些非光滑表面上的接触角进行测量,测量结果表明材料表面几何结构直接影响接触... 对植物叶表面的超疏水现象研究表明:植物叶表面的微观结构是引起超疏水的根本原因。设计并利用软刻蚀技术制备了一系列不同参数的光栅微结构表面,对水滴在这些非光滑表面上的接触角进行测量,测量结果表明材料表面几何结构直接影响接触角的大小,通过设计微结构的几何参数可以获得理想的超疏水材料。 展开更多
关键词 软刻蚀 超疏水 微结构 接触角
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有机硅橡胶/蒙脱土纳米复合弹性印章的制备 被引量:5
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作者 金邦坤 吴晓松 +1 位作者 陈大柱 何平笙 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期1142-1144,共3页
The polydimethylsilicone(PDMS) rubber, a material generally used to make the elastomeric stamp in soft lithography, was modified by the organic montmorillonite(MMT). The cure behavior and the modular change of the nan... The polydimethylsilicone(PDMS) rubber, a material generally used to make the elastomeric stamp in soft lithography, was modified by the organic montmorillonite(MMT). The cure behavior and the modular change of the nanocomposite were monitored with the resin curemeter. The results showed that after the intercalation of montmorillonite, the nanocomposite cure faster and the modulus of compound increased obviously. Especially, the elasticity and fitness of the PDMS/MMT nanocomposite were enhanced, also the nanocomposite had better mechanical properties and stronger solvent resistance. The results suggest that this nanocomposites is more suitable for preparing elastomeric stamps in soft lithography. 展开更多
关键词 有机硅橡胶 蒙脱土 纳米复合弹性印章 制备 纳米复合材料 软刻蚀
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微模塑法制备PMMA/SiO_2二氧化硅杂化材料微结构 被引量:3
16
作者 刘建平 郭斌 +1 位作者 何平笙 张其锦 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第6期779-782,共4页
以摩尔比为 1∶1的甲基丙烯酸甲酯 (MMA)、甲基丙烯酸 (3 三乙氧基硅烷基 )丙酯 (ESMA)单体、0 .2 %(单体总量的质量分数 )的偶氮二异丁腈AIBN引发剂和四氢呋喃 (THF)溶剂 ,及 2 0 % (总质量分数 )的正硅酸乙酯TEOS合成出PMMA/SiO2 有... 以摩尔比为 1∶1的甲基丙烯酸甲酯 (MMA)、甲基丙烯酸 (3 三乙氧基硅烷基 )丙酯 (ESMA)单体、0 .2 %(单体总量的质量分数 )的偶氮二异丁腈AIBN引发剂和四氢呋喃 (THF)溶剂 ,及 2 0 % (总质量分数 )的正硅酸乙酯TEOS合成出PMMA/SiO2 有机 无机杂化的杂化溶胶 .将溶胶在洗净的普通光学玻璃基片表面甩膜 .利用软刻蚀中的微模塑法 ,把有机硅弹性印章复制有精细图纹一面轻放在杂化溶胶膜上进行微模塑 ,外加 1N压力于12 0℃下处理 2h使溶胶凝胶化 .印章剥离后在基片表面就形成了PMMA/SiO2 有机 无机杂化材料的微图纹结构 .从微图纹的光学显微镜照片可以看出微模塑方法制备杂化材料复制的图纹精细度高 ,操作简单易行 ,是一类比较理想的微细图纹结构加工的方法 . 展开更多
关键词 软刻蚀 微模塑 PMMA/SiO2 杂化
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多维微驱动器纳米定位系统的研究 被引量:3
17
作者 刘红忠 丁玉成 +2 位作者 李涤尘 卢秉恒 李寒松 《信息与控制》 CSCD 北大核心 2002年第5期446-450,共5页
本文论述了在有多维微驱动器定位系统中 ,应用 PID和 FU ZZY联合控制的方式解决定位中存在的速度调节与系统振荡的矛盾 ;应用坐标变换方式解决多维定位系统中的干涉现象 ;以及在实际系统中 ,采用直线电机与微驱动器联合驱动的硬件构架 ... 本文论述了在有多维微驱动器定位系统中 ,应用 PID和 FU ZZY联合控制的方式解决定位中存在的速度调节与系统振荡的矛盾 ;应用坐标变换方式解决多维定位系统中的干涉现象 ;以及在实际系统中 ,采用直线电机与微驱动器联合驱动的硬件构架 ,并配以上述控制策略 ,对定位系统进行粗定位和微定位 ,最终实现大范围和高精度的定位系统 . 展开更多
关键词 集成电路 制造工艺 软刻蚀工艺 多维微驱动器 纳米定位系统
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微接触印刷法构造金属银的二维和准三维微图纹结构 被引量:6
18
作者 刘建平 何平笙 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1143-1145,共3页
以聚二甲基硅氧烷(PDMS)有机硅橡胶为弹性印章,以十八烷基三氯硅烷(OTS)正已烷溶液为“墨水”,用微接触印刷分别在普通盖玻片表面和直径为20mm的试管外表面直接盖印,以及在直径为10mm的玻璃棒表面进行滚动式微接触印刷盖印.将这些盖好... 以聚二甲基硅氧烷(PDMS)有机硅橡胶为弹性印章,以十八烷基三氯硅烷(OTS)正已烷溶液为“墨水”,用微接触印刷分别在普通盖玻片表面和直径为20mm的试管外表面直接盖印,以及在直径为10mm的玻璃棒表面进行滚动式微接触印刷盖印.将这些盖好印的基材放在化学镀银液中进行选择性镀银沉积,得到金属银在平面上的二维微结构和在曲面上的准三维微结构.这些微结构的显微照片显示,采用微接触印刷法制备的微图纹结构,图纹转移效率高,精细度很好,特别是微接触印刷操作方法灵活多变,适用于多种形态的表面,是一类实用的微制造方法. 展开更多
关键词 微接触印刷法 金属银 二维微图纹 三维微图纹 微结构 化学沉积 软刻蚀
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微流控分析芯片的加工技术 被引量:27
19
作者 殷学锋 方群 凌云扬 《现代科学仪器》 2001年第4期10-14,共5页
综述了微流控分析芯片的加工技术和材质性能。光刻和蚀刻技术常用于加工硅、玻璃和石英芯片。有机聚合物由于品种多、易加工 ,是代替玻璃和石英的芯片材料。本文总结和讨论了各种芯片材料和它们的加工方法 ,如光刻、湿法刻蚀、干法刻蚀... 综述了微流控分析芯片的加工技术和材质性能。光刻和蚀刻技术常用于加工硅、玻璃和石英芯片。有机聚合物由于品种多、易加工 ,是代替玻璃和石英的芯片材料。本文总结和讨论了各种芯片材料和它们的加工方法 ,如光刻、湿法刻蚀、干法刻蚀、模塑法、软刻蚀、热压法、激光切蚀法、LIGA技术和键合技术。引用文献 展开更多
关键词 微流控分析芯片 微制备 光刻 蚀刻 软刻蚀 键合
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用毛细微模塑法制造无机盐及聚合物的微结构 被引量:2
20
作者 金邦坤 严云飞 +3 位作者 吴晓松 何平笙 钱逸泰 夏幼南 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期1-5,共5页
用树脂固化仪优选了适宜于制作弹性印章的硅橡胶的最佳固化配比 ,当固化剂B组分为 2 5 %~3 0 %时硅橡胶具有最佳的固化速度和弹性性能 ,最适于制作弹性印章。用毛细微模塑法制作了硫酸铜、苯甲酸钠等无机盐和聚酰胺酸、聚乙二醇等聚... 用树脂固化仪优选了适宜于制作弹性印章的硅橡胶的最佳固化配比 ,当固化剂B组分为 2 5 %~3 0 %时硅橡胶具有最佳的固化速度和弹性性能 ,最适于制作弹性印章。用毛细微模塑法制作了硫酸铜、苯甲酸钠等无机盐和聚酰胺酸、聚乙二醇等聚合物材料的微结构 ,并尝试了K2 CO3和CuSO4 展开更多
关键词 无机盐 聚合物 软刻蚀 毛细微模塑 微结构 弹性印章 聚二甲基硅氧烷 硅橡胶 硫酸铜 树脂固化仪 苯甲酸钠 化学反应
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