基于软刻蚀技术的微三维结构加工方法研究

软刻蚀是通过表面带有图案的弹性模板来实现图案转移的图形复制技术,弹性印章是软刻蚀技术的核心。简单介绍了软刻蚀技术,使用SDS-3型电子束曝光机,采用重复增量扫描方式进行曝光,生成弹性印章的母版,将其硅烷化后用以制作弹性印章,再利用软刻蚀技术可进行微图形的复制,得到微三维结构。显影后得到轮廓清晰的三维结构,证明将电子束重复增量扫描曝光方式与软刻蚀技术相结合可为制作微三维结构提供一种简单、有效的低成本途径。

聚焦离子束刻蚀制造三维软刻蚀母模板的研究

研究了一种基于聚焦离子束(FIB)刻蚀法制备软刻蚀用母模板的新方法。该方法采用FIB刻蚀技术在Si基底上制备出15μm×15μm的轮廓清晰的三维结构作为弹性印章的母模板,三甲基氯硅烷(TMCS)作为抗黏连层旋涂于Si基底表面,其后旋涂聚二甲基硅氧烷(PDMS)预聚物复制模铸出与Si基底相反的微三维结构。通过接触角测量仪检测Si样品表面疏水性能,并用原子力显微镜(AFM)对PDMS样品形貌进行检测。研究结果表明,特征图形得到了很好的转移。该方法相对于传统软刻蚀母模板制备方法,加工的三维结构具有操作步骤简单、制备周期短的特点,是一种有效的制备软刻蚀母模板方法。

电子束光刻制造软刻蚀用母板的研究

使用通用电子束曝光机,采用一种新的电子束微三维加工的重复增量扫描方式进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的微三维结构,以此为制作弹性印章的母模板,经硅烷化后可用来制作弹性印章,得到弹性印章后便可再利用软刻蚀相关技术进行微图形的复制。曝光实验的结论表明采用电子束重复增量扫描方式可用来制作微三维弹性印章的母版。

有机纳米材料成为研究焦点

2002年亚洲纳米会议于11月26日在日本东京召开,历时3天。这是从1996年以来第4次召开的纳米会议。与会代表近200人,主要来自日本、中国、韩国。目的是交流思想,加强国际间交流与合作,促进亚洲纳米技术与科学的发展。共有50多名科学家作了大会发言。会议共收到160篇论文,其中有关纳米技术改进的文章占5%,与有机纳米材料相关的占34%,无机纳米材料占27%,其他占34%。从纳米材料的维数来看,有关零维纳米材料的研究和制备的论文占24%(包括二维材料中纳米粒子性能的研究),一维19%,二维10%,三维6%。