软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文)

报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射频功率、压强和气体流量对刻蚀形貌、表面粗糙度以及刻蚀速度的影响.在优化的工艺条件下,获得了理想的具有垂直侧壁形貌和较小表面粗糙度的纳米光栅阵列.结果表明,选择优化的刻蚀工艺参数,既能有效地改善图形转移的性能,同时也能提高所制备结构的光学应用特性.

软膜紫外光固化纳米压印制备等离子体纳米孔结构的工艺优化

利用软膜紫外光固化纳米压印技术和反应离子刻蚀技术在玻璃衬底上制备了等离子体纳米孔阵列。为了实现高分辨低成本软膜紫外光固化纳米压印技术在生物传感领域的应用和产业化,必须对压印的一些具体工艺参数如压印压力进行优化。在这项工作中,压印压力最小化到10 psi,结果表明这一数值足以保证图案的精确复制以及图案转移的保真度。最后,利用反应离子刻蚀的方法去除残余光胶,并用剥离的方法进行图案转移,成功地制备出了均匀性良好的金纳米孔阵列。为了证明金属纳米周期结构在生物传感上的应用,使该阵列表面吸附蛋白质分子,结果观察到明显的透射峰偏移。

利用复合光栅减反膜提高太阳能电池的转换效率

太阳能电池是通过光电效应或者光化学效应直接或间接地将太阳光转化为电能的装置.太阳能电池减反膜可以减少太阳能电池表面的反射损失,提高其光电转换效率.介绍了一种环氧树脂材料的复合光栅结构减反膜的低成本制备方法.通过激光直写光刻方法制备微米结构光栅模板,用软膜压印方法将微米尺度的光栅模板图案压印到预先拉伸的二甲基硅氧烷薄膜上,固化、脱模和衬底收缩后可使光栅周期大大减小.通过等离子体表面改性法使收缩后的光栅表面产生褶皱纳米光栅结构,形成复合光栅图案.通过软膜压印方法将复合光栅图案转移到环氧树脂减反膜上.实验结果表明,与原微米尺度的光栅减反膜相比,制备的复合光栅减反膜可以将商用晶硅太阳能电池的相对转换效率提升4.26%,相对反射率减小19.43%,并且可以将减反膜表面的水滴接触角提高16°,这将增强太阳能电池的自清洁性能.