超短强激光辐照Ar喷气靶的X射线发射

利用带差分抽运系统的高效高分辨率软 X射线大面积透射光栅光谱仪 ,对超短强激光脉冲辐照下氩气体靶的软 X射线发射特性进行了光谱诊断。测得了氩气 1 2 nm～ 35 nm范围内的 X射线发射光谱 ,并观察到

硅基底上外延生长过渡金属硅化物薄膜的研究

过渡金属与硅的接触系统一直被人们所关注 ,是因为它们在界面处具有肖特基势垒的形成、过渡金属硅化物的外延生长、制作器件的稳定和耐高温等重要性 .因此在硅基底上形成金属硅化物薄膜也被广泛应用于半导体工业 .对硅衬底上蒸发的Cr、Fe、Mn薄膜进行热处理 ,通过固相反应法 (SPR)制备过渡金属硅化物薄膜 ,即经过对过渡金属硅化物 (薄膜 ) Si系统进行各种温度、不同时间的热处理 ,制备出各种过渡金属硅化物薄膜 .对于制成的各种硅化物薄膜 ,用X射线衍射法 (XRD)和软X射线发射分光光谱法 (SXES)对它们的组成成分进行了分析和确认 .并且 ,由这两种分析方法表明