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软X射线投影光刻技术
1
作者
王占山
曹健林
《科技导报》
CAS
CSCD
1997年第9期9-11,共3页
关键词
大规模集成电路芯片
软
x
射线
投影光刻
技术
缩小倍率
分辨率
下载PDF
职称材料
用软X射线鉴定文物
被引量:
1
2
作者
郑中兴
《无损探伤》
2004年第3期42-43,共2页
介绍了利用软 X射线探伤的电压、电流、焦点选择和成像时的几个特点 ,特别是对古画、丝绸、书简等纤维组织有很高的对比度和分辨率 ,并列举几个鉴定文物的例子 ,说明了其巨大的潜力。
关键词
无损检测
镀窗口
高速摄影
双片
技术
软x射线技术
软
x
射线
探伤
文物鉴定
原文传递
自溯源光栅标准物质及其应用
被引量:
5
3
作者
邓晓
李同保
程鑫彬
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第21期2608-2625,共18页
纳米计量技术是纳米尺度上的精密测量技术,是先进纳米制造技术的基础。其中,溯源性是纳米计量的基础问题,而研制纳米计量标准物质是实现纳米测量溯源性传递、保证纳米几何量值测试的统一性和准确性的关键环节。为适应纳米计量扁平化量...
纳米计量技术是纳米尺度上的精密测量技术,是先进纳米制造技术的基础。其中,溯源性是纳米计量的基础问题,而研制纳米计量标准物质是实现纳米测量溯源性传递、保证纳米几何量值测试的统一性和准确性的关键环节。为适应纳米计量扁平化量值传递溯源的要求,基于铬跃迁频率,采用原子光刻技术和软X射线干涉技术制备了1D 212.8 nm,2D 212.8 nm,1D 106.4 nm 3种自溯源光栅标准物质;在多层膜沉积技术研制硅纳米线宽结构的基础上,探索了基于硅晶格常数的硅纳米线宽自溯源型测量方法。在应用领域,开展了自溯源光栅对扫描探针显微镜、扫描电子显微镜等高精密测量仪器的校准研究。研究结果表明,自溯源型标准物质及其测量方法缩短了精密仪器和加工技术过程中的纳米长度计量溯源链,是先进纳米制造和新一代信息技术的有力支撑。
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关键词
纳米科技
纳米计量
自溯源标准物质
原子光刻
技术
软
x
射线
干涉光刻
技术
多层膜沉积
技术
下载PDF
职称材料
题名
软X射线投影光刻技术
1
作者
王占山
曹健林
机构
中科院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
出处
《科技导报》
CAS
CSCD
1997年第9期9-11,共3页
关键词
大规模集成电路芯片
软
x
射线
投影光刻
技术
缩小倍率
分辨率
分类号
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
用软X射线鉴定文物
被引量:
1
2
作者
郑中兴
机构
北京交通大学理学院
出处
《无损探伤》
2004年第3期42-43,共2页
文摘
介绍了利用软 X射线探伤的电压、电流、焦点选择和成像时的几个特点 ,特别是对古画、丝绸、书简等纤维组织有很高的对比度和分辨率 ,并列举几个鉴定文物的例子 ,说明了其巨大的潜力。
关键词
无损检测
镀窗口
高速摄影
双片
技术
软x射线技术
软
x
射线
探伤
文物鉴定
分类号
G26 [历史地理—考古学及博物馆学]
TG115.28 [金属学及工艺—物理冶金]
原文传递
题名
自溯源光栅标准物质及其应用
被引量:
5
3
作者
邓晓
李同保
程鑫彬
机构
同济大学物理科学与工程学院精密光学工程技术研究所
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第21期2608-2625,共18页
基金
国家自然科学基金面上项目(No.62075165)
上海张江国家自主创新示范区专项发展资金重大项目(No.ZJ2021-ZD-008)。
文摘
纳米计量技术是纳米尺度上的精密测量技术,是先进纳米制造技术的基础。其中,溯源性是纳米计量的基础问题,而研制纳米计量标准物质是实现纳米测量溯源性传递、保证纳米几何量值测试的统一性和准确性的关键环节。为适应纳米计量扁平化量值传递溯源的要求,基于铬跃迁频率,采用原子光刻技术和软X射线干涉技术制备了1D 212.8 nm,2D 212.8 nm,1D 106.4 nm 3种自溯源光栅标准物质;在多层膜沉积技术研制硅纳米线宽结构的基础上,探索了基于硅晶格常数的硅纳米线宽自溯源型测量方法。在应用领域,开展了自溯源光栅对扫描探针显微镜、扫描电子显微镜等高精密测量仪器的校准研究。研究结果表明,自溯源型标准物质及其测量方法缩短了精密仪器和加工技术过程中的纳米长度计量溯源链,是先进纳米制造和新一代信息技术的有力支撑。
关键词
纳米科技
纳米计量
自溯源标准物质
原子光刻
技术
软
x
射线
干涉光刻
技术
多层膜沉积
技术
Keywords
nanotechnology
nanometrology
self-traceable reference material
atom lithography
soft
x
-ray interference lithography
multilayer deposition technology
分类号
TB9 [机械工程—测试计量技术及仪器]
TB921 [机械工程—测试计量技术及仪器]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
软X射线投影光刻技术
王占山
曹健林
《科技导报》
CAS
CSCD
1997
0
下载PDF
职称材料
2
用软X射线鉴定文物
郑中兴
《无损探伤》
2004
1
原文传递
3
自溯源光栅标准物质及其应用
邓晓
李同保
程鑫彬
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
5
下载PDF
职称材料
已选择
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