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具有纵向辅助耗尽衬底层的新型横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管 被引量:1
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作者 赵逸涵 段宝兴 +2 位作者 袁嵩 吕建梅 杨银堂 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第7期382-388,共7页
为了优化横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(lateral double-diffused MOSFET,LDMOS)的击穿特性及器件性能,在传统LDMOS结构的基础上,提出了一种具有纵向辅助耗尽衬底层(assisted depletesubstrate layer,ADSL)的新型LDMOS.新加入... 为了优化横向双扩散金属氧化物半导体场效应晶体管(lateral double-diffused MOSFET,LDMOS)的击穿特性及器件性能,在传统LDMOS结构的基础上,提出了一种具有纵向辅助耗尽衬底层(assisted depletesubstrate layer,ADSL)的新型LDMOS.新加入的ADSL层使得漏端下方的纵向耗尽区大幅向衬底扩展,从而利用电场调制效应在ADSL层底部引入新的电场峰,使纵向电场得到优化,同时横向表面电场也因为电场调制效应而得到了优化.通过ISE仿真表明,当传统LDMOS与ADSL LDMOS的漂移区长度都是70μm时,击穿电压由462 V增大到897 V,提高了94%左右,并且优值也从0.55 MW/cm^2提升到1.24 MW/cm^2,提升了125%.因此,新结构ADSL LDMOS的器件性能较传统LDMOS有了极大的提升.进一步对ADSL层进行分区掺杂优化,在新结构的基础上,击穿电压在双分区时上升到938 V,三分区时为947 V. 展开更多
关键词 辅助耗尽衬底层 横向双扩散功率器件 击穿电压 优值
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New Lateral Super Junction MOSFETs with n^+-Floating Layer on High-Resistance Substrate 被引量:2
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作者 段宝兴 张波 李肇基 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期166-170,共5页
A new super junction LDMOST structure that suppresses the substrate-assisted depletion effect is designed with an n^+-floating layer embedded in the high-resistance p-type substrate by implanting phosphor or arsenic.... A new super junction LDMOST structure that suppresses the substrate-assisted depletion effect is designed with an n^+-floating layer embedded in the high-resistance p-type substrate by implanting phosphor or arsenic. This effect results from a charge imbalance between the n-type and p-type pillars when the n-type pillars are depleted by p-type substrate. The high electric field around the drain is reduced by the n^+-floating layer due to the REBULF effect,which causes the redistribution of the bulk electric field in the drift region,and thus the substrate supports more biases. The new structure features high breakdown voltage, low on-resistance,and charge balance in the drift region. 展开更多
关键词 super junction LDMOST substrate-assisted depletion n^+-floating layer breakdown voltage
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