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BF_2^+注入硅栅p沟MOS场效应晶体管辐射感生界面陷阱测量
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作者 张正选 罗晋生 +2 位作者 袁仁峰 张廷庆 姜景和 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期350-354,共5页
利用亚阈测量技术对BF+2 注入硅栅PMOSFET辐射感生界面陷阱进行了测量。对BF+2 注入PMOSFET具有抑制辐射感生界面陷阱的机理进行了分析和讨论。
关键词 硅栅PMOSFET 辐射感生界面陷阱 MOS器件
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