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BF_2^+注入硅栅p沟MOS场效应晶体管辐射感生界面陷阱测量
1
作者
张正选
罗晋生
+2 位作者
袁仁峰
张廷庆
姜景和
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第4期350-354,共5页
利用亚阈测量技术对BF+2 注入硅栅PMOSFET辐射感生界面陷阱进行了测量。对BF+2 注入PMOSFET具有抑制辐射感生界面陷阱的机理进行了分析和讨论。
关键词
硅栅PMOSFET
辐射感生界面陷阱
MOS器件
下载PDF
职称材料
题名
BF_2^+注入硅栅p沟MOS场效应晶体管辐射感生界面陷阱测量
1
作者
张正选
罗晋生
袁仁峰
张廷庆
姜景和
机构
西北核技术研究所
西安交通大学微电子所
西安电子科技大学微电子所
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第4期350-354,共5页
文摘
利用亚阈测量技术对BF+2 注入硅栅PMOSFET辐射感生界面陷阱进行了测量。对BF+2 注入PMOSFET具有抑制辐射感生界面陷阱的机理进行了分析和讨论。
关键词
硅栅PMOSFET
辐射感生界面陷阱
MOS器件
Keywords
BF_2^+
Si-gate PMOSFET
radiation-induced interface traps
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
BF_2^+注入硅栅p沟MOS场效应晶体管辐射感生界面陷阱测量
张正选
罗晋生
袁仁峰
张廷庆
姜景和
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
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