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树脂型光刻胶薄膜中Eu^3+的辐射跃迁特性 被引量:1
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作者 李晓娟 TSANG Kwok Chu +1 位作者 PUN Edwin Yue-Bun 林海 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期602-606,共5页
合成了稀土配合物Eu(TTFA)3(TTFA,2-thenoyltrifluoroacetone)掺杂的树脂型光刻胶薄膜,测定了薄膜的激发光谱和发射光谱。根据Judd-Ofelt理论,由发射光谱获得了Eu3+在光刻胶薄膜中的J-O参数Ω2=24.4×10-20cm2,Ω4=2.8×10-20cm... 合成了稀土配合物Eu(TTFA)3(TTFA,2-thenoyltrifluoroacetone)掺杂的树脂型光刻胶薄膜,测定了薄膜的激发光谱和发射光谱。根据Judd-Ofelt理论,由发射光谱获得了Eu3+在光刻胶薄膜中的J-O参数Ω2=24.4×10-20cm2,Ω4=2.8×10-20cm2。利用得到的J-O参数计算了光刻胶薄膜中5D0激发态的辐射跃迁概率(977 s-1)和辐射寿命(1.02 ms),同时导出了光刻胶薄膜中Eu3+的5D0→7FJ(J=1,2,4)跃迁的受激发射截面σ和荧光分支比β。分析表明,Eu3+掺杂的光刻胶薄膜具有较长的亚稳态寿命以及较大的受激发射截面,是一种主动放大的光波导薄膜。其发射波长与光刻胶的低吸收损耗区很好地匹配,可用于研发聚合物光波导放大器和激光器。 展开更多
关键词 稀土配合物 光刻胶薄膜 Judd-Ofelt参数 辐射跃迁概率
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