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MOS器件加固技术的理论研究
被引量:
1
1
作者
罗尹虹
张正选
+4 位作者
姜景和
姚育娟
何宝平
王桂珍
彭宏论
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第3期276-279,共4页
对具有侧向寄生晶体管的NMOSFET进行二维数值模拟 ,探讨了掺杂浓度、辐照偏压以及鸟嘴形状 3个关键参数对于器件抗总剂量辐射加固性能的影响。分析得出 ,增加鸟嘴和场氧区下的掺杂浓度、降低辐照栅电压、减小鸟嘴斜率均将有助于降低寄...
对具有侧向寄生晶体管的NMOSFET进行二维数值模拟 ,探讨了掺杂浓度、辐照偏压以及鸟嘴形状 3个关键参数对于器件抗总剂量辐射加固性能的影响。分析得出 ,增加鸟嘴和场氧区下的掺杂浓度、降低辐照栅电压、减小鸟嘴斜率均将有助于降低寄生泄漏电流 ,提高抗辐射能力。
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关键词
MOS器件
加固技术
抗辐射加固
掺杂浓度
辐照偏压
鸟嘴形状
抗辐射能力
晶体管
下载PDF
职称材料
题名
MOS器件加固技术的理论研究
被引量:
1
1
作者
罗尹虹
张正选
姜景和
姚育娟
何宝平
王桂珍
彭宏论
机构
西北核技术研究所
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第3期276-279,共4页
文摘
对具有侧向寄生晶体管的NMOSFET进行二维数值模拟 ,探讨了掺杂浓度、辐照偏压以及鸟嘴形状 3个关键参数对于器件抗总剂量辐射加固性能的影响。分析得出 ,增加鸟嘴和场氧区下的掺杂浓度、降低辐照栅电压、减小鸟嘴斜率均将有助于降低寄生泄漏电流 ,提高抗辐射能力。
关键词
MOS器件
加固技术
抗辐射加固
掺杂浓度
辐照偏压
鸟嘴形状
抗辐射能力
晶体管
Keywords
radiation hardening
doping level
gate bias during irradiation
bird's beak shape
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
MOS器件加固技术的理论研究
罗尹虹
张正选
姜景和
姚育娟
何宝平
王桂珍
彭宏论
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
2002
1
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