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MOS器件加固技术的理论研究 被引量:1
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作者 罗尹虹 张正选 +4 位作者 姜景和 姚育娟 何宝平 王桂珍 彭宏论 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 2002年第3期276-279,共4页
对具有侧向寄生晶体管的NMOSFET进行二维数值模拟 ,探讨了掺杂浓度、辐照偏压以及鸟嘴形状 3个关键参数对于器件抗总剂量辐射加固性能的影响。分析得出 ,增加鸟嘴和场氧区下的掺杂浓度、降低辐照栅电压、减小鸟嘴斜率均将有助于降低寄... 对具有侧向寄生晶体管的NMOSFET进行二维数值模拟 ,探讨了掺杂浓度、辐照偏压以及鸟嘴形状 3个关键参数对于器件抗总剂量辐射加固性能的影响。分析得出 ,增加鸟嘴和场氧区下的掺杂浓度、降低辐照栅电压、减小鸟嘴斜率均将有助于降低寄生泄漏电流 ,提高抗辐射能力。 展开更多
关键词 MOS器件 加固技术 抗辐射加固 掺杂浓度 辐照偏压 鸟嘴形状 抗辐射能力 晶体管
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