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SiC功率器件辐照诱生缺陷实验研究进展
1
作者
杨治美
高旭
+3 位作者
李芸
黄铭敏
马瑶
龚敏
《电子与封装》
2022年第5期1-9,共9页
第三代宽禁带半导体碳化硅(SiC)功率器件在航天、航空和核工业等强辐射领域的极端环境下应用时会受到辐照损伤的影响诱生缺陷,最终导致器件性能退化或者失效。简要介绍了SiC功率器件辐照效应发展历程和辐照效应,梳理轻离(粒)子辐照诱生...
第三代宽禁带半导体碳化硅(SiC)功率器件在航天、航空和核工业等强辐射领域的极端环境下应用时会受到辐照损伤的影响诱生缺陷,最终导致器件性能退化或者失效。简要介绍了SiC功率器件辐照效应发展历程和辐照效应,梳理轻离(粒)子辐照诱生缺陷与敏感参数退化的实验规律,分析总结重离子辐照SiC功率器件中一些关键技术问题,特别是不同温度辐照诱生缺陷形成机理的异同,为今后深入开展SiC肖特基二极管(Schottky Barrier Diode,SBD)的辐照诱生缺陷、器件性能退化研究及SiC相关器件的材料抗辐照性能的改善和结构优化提供实验数据和理论依据。
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关键词
碳化硅
辐照诱生缺陷
深能级
缺陷
电学性能
重离子
辐照
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职称材料
6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
2
作者
王鸥
丁元力
+5 位作者
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
《光散射学报》
2004年第1期66-69,共4页
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对...
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对具有不同的退火行为,这否定了它们源于相同的辐照诱生缺陷的观点。D1中心可能源于由空位和反位组成的复合体。
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关键词
碳化硅
低温光致发光
辐照诱生缺陷
退火处理
零声子谱线
下载PDF
职称材料
题名
SiC功率器件辐照诱生缺陷实验研究进展
1
作者
杨治美
高旭
李芸
黄铭敏
马瑶
龚敏
机构
四川大学物理学院微电子技术四川省重点实验室
四川大学辐射物理及技术教育部重点实验室
出处
《电子与封装》
2022年第5期1-9,共9页
基金
国家自然科学基金(61704116、61974096)
模拟集成电路重点实验室基金(6142802190505)
国防科技工业抗辐照应用技术创新中心项目(KFZC2020021001)。
文摘
第三代宽禁带半导体碳化硅(SiC)功率器件在航天、航空和核工业等强辐射领域的极端环境下应用时会受到辐照损伤的影响诱生缺陷,最终导致器件性能退化或者失效。简要介绍了SiC功率器件辐照效应发展历程和辐照效应,梳理轻离(粒)子辐照诱生缺陷与敏感参数退化的实验规律,分析总结重离子辐照SiC功率器件中一些关键技术问题,特别是不同温度辐照诱生缺陷形成机理的异同,为今后深入开展SiC肖特基二极管(Schottky Barrier Diode,SBD)的辐照诱生缺陷、器件性能退化研究及SiC相关器件的材料抗辐照性能的改善和结构优化提供实验数据和理论依据。
关键词
碳化硅
辐照诱生缺陷
深能级
缺陷
电学性能
重离子
辐照
Keywords
SiC
irradiation induced defects
deep level defects
electrical properties
heavy ion irradiation
分类号
TN306 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
2
作者
王鸥
丁元力
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
机构
四川大学物理科学与技术学院微电子技术四川省重点实验室
香港大学物理系
出处
《光散射学报》
2004年第1期66-69,共4页
基金
国家自然科学基金(60076010)资助
文摘
本文用低温光致发光(LTPL)技术对经中子辐照的N型6H-SiC在350℃-1650℃温度范围的退火行为进行了研究。在700℃退火后观察到D1中心(D1-center)和位于485.0nm、493.6nm处的发光中心。我们发现D1中心与深能级瞬态谱(DLTS)的E1/E2深能级对具有不同的退火行为,这否定了它们源于相同的辐照诱生缺陷的观点。D1中心可能源于由空位和反位组成的复合体。
关键词
碳化硅
低温光致发光
辐照诱生缺陷
退火处理
零声子谱线
Keywords
6H-SiC
LTPL
Irradiation-induced-defect
Annealing
分类号
O472.3 [理学—半导体物理]
O482.31 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SiC功率器件辐照诱生缺陷实验研究进展
杨治美
高旭
李芸
黄铭敏
马瑶
龚敏
《电子与封装》
2022
0
下载PDF
职称材料
2
6H-SiC辐照特性的低温光致发光研究
王鸥
丁元力
钟志亲
袁菁
龚敏
Chen X D
Fung S
Beling C D
《光散射学报》
2004
0
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职称材料
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