用相位掩模法制作光纤光栅的技术

准分子激光照射相位掩模后，在近场形成周期的条纹分布，利用近场光强对光敏光纤进行曝光，可以在纤芯中写人光栅。对光纤光栅折射率分布进行合理假设，运用耦合模理论计算了光纤光栅的反射率，对其反射率与相关参数的关系进行了讨论，并且分析了用相位掩模技术制造光纤光栅的影响因素，得出要获得窄带宽高反射率光栅需有适当的折射率调制和大的光纤光栅长度的结论。另外还导出了掩模板后表面的近场光强分布和光纤光栅的周期公式。

相位掩模的近场衍射特性分析

用相位掩模法制造光纤光栅是一种简单、有效的方法 .本文用标量衍射理论对相位掩模的近场衍射特性进行了分析 ,讨论了各级衍射光形成的干涉条纹的分布情况 。

布喇格光纤光栅反射特性及制作的理论研究

在对光纤光栅折射率分布进行合理假设的基础上，运用耦合模理论计算了光纤光栅的反射特性，对其反射特性与相关参数的关系进行了分析，并且还推导出了用相位掩模法制造光纤光栅的理论根据，得到了一些有益于光纤光栅制造的结论和有用公式。

相位掩模法制作光纤光栅的研究

准分子激光照射相位掩模后，在近场形成周期的条纹分布，利用近场光强对光敏光纤进行曝光，可以在纤芯中写入光栅。从衍射的频谱理论出发，导出具有一定发散角的准单色准分子激光照射掩模时产生的近场光强分布。分析了光源发散角及掩模衍射特性对纤芯近场光强分布及光纤光栅制作的影响。并把分析结果与实验现象进行了比较。

利用掩膜制作光纤光册的分析

利用相位掩膜和准分子激光，可以方便有效地制作光纤光栅．本文从衍射和干涉理论出发，讨论了具有一定空间和时间相干性的准分子激光照射具有不同衍射级次的掩膜时产生的近场光场分布．分析了其对光纤光栅制作的影响．并把分析结果与实验现象进行了比较。

基于Micro-LED器件光学测试标准的研究

本文基于Micro-LED器件阵列的制备与测试标准的研究,结合目前暂无规范测试标准的情况,尤其是针对单个微尺度芯片的亮度小于一般测量设备灵敏度区间时的特点,提出了一种针对Micro-LED光电特性优化的测试标准。该方法能够有效侦测Micro-LED器件阵列的电学参数和光学参数,尤其是光学均一性和近场光强分布,这对Micro-LED器件方向上国际标准的制定提供了重要的参考依据。

光纤光栅反射特性及相位掩模法制作的理论分析

在对光纤光栅折射率分布进行合理假设的基础上，运用耦合模理论计算了光纤光栅的反射特性，对其反射特性与相关参数的关系进行了分析，并且还推导出了用相位掩模法制造光纤光栅的理论根据，得到了一些有益于光纤光栅制造的结论和有用公式。