微粒场全息术的最佳远场条件研究

介绍了同轴Fraunhofer远场全息技术的特点,对微粒场全息术的最佳远场数进行了理论和实验探讨,针对不同形状的粒子给出了静态条件下诊断微粒场最佳远场数范围,摸索了测量微粒场的最佳照像条件。

粒子场同轴全息图中对比度与再现像关系的讨论

本文以同轴全息中的比较典型的四种截面的粒子（－维线形、正方形、长方形圆形）为例，从理论上推导了这国种截面粒子的全息图对比度与远场数的关系，并做出对比度随远场数变化的曲线图。对照数值模拟得到的再现平面上的光强分布，分析照相系统对全息图的对比度的记录能力以及洗像过程对全息图信息的丢失程度的综合影响，以达到为优化照相条件和改善洗像工艺提供理论模型的目的。