利用单波长激光器构造远紫外光源

用于光学印刷的远紫外光源可以分为两类:一类是用在曝光照明和其他高功率应用,另一类是用在测量工具上.对于曝光的感光材料,平均功率很高的准分子激光器是可选的光源。而对于测量工具,只要求很低的光学功率,因此可通过小功率、单波长的固体激光器来获得,这样就无须处理有毒气体.通常。

锡和氙离子在13.5nm波长附近的光谱特性

应用多组态Dirac—Foek方法，系统计算了锡（Sn）和氙（Xe）离子在13．5nm波长附近的辐射跃迁波长和跃迁几率。深入分析了Sn^（7-13）＋和Xe^（7-13）＋离子跃迁的原子光谱特性，研究了相对论效应和电子关联效应对能级位置和跃迁几率的影响发现，相对论效应和电子关联效应对光谱能量的影响分别为2％和5％。并从光谱特性的角度对比讨论了Sn和Xe作为极端远紫外光源的优劣，发现Sn更有优势。

光刻技术能否突破极限?

芯片制造业巨头联手攻关 国家实险室担任主角 半导体制造厂商目前在光学光刻技术能力上都在逼近极限,很多厂商争相探寻下一代光刻技术(NGL)系统。由于电子设备业今后健康发展和生命力的关键就在于下一代光刻技术,所以工业上用于研制NGL的耗费很大。总之,要使莫尔定律继续有效。