液晶实时掩膜技术制作连续微光学元件

提出制作连续微光学元件的一种新技术———液晶实时掩膜技术 ,阐述了其基本原理和制作方法。基于部分相干光成像理论 ,采用计算机模拟了用实时掩膜制作微透镜和微轴锥镜阵列的过程。同时建立了实验装置进行实验 ,用全色银盐干板 (Kodak 131)通过酶刻蚀得到口径为 118.7μm ,深为 1.32 2 μm的 5 6× 48的轴锥镜的列阵。

连续微光学元件在光刻胶上的面形控制

介绍了连续微光学元件在光刻胶上的面形控制方法。分析了光刻胶及显影液在制作二元和连续元件中所存在的差别 ;导出具有倒易关系的浮雕深度表达式和适用的范围 ,并以此指导面形的控制 ,对光刻胶进行适当的改造以适应连续微光学元件的制作。本文还给出了实验验证 ,制作出了多种质量优良的连续微光学元件 ,并对典型元件的面形进行了评价。

微细加工技术与设备

TN305.7 20010214190.13μm集成电路制造中的光刻技术研究现状及展望=Status and prospects of lithography technologiesfor 0.1 3 μm integrated circuit manufacturing[刊,中]/郭宝增(河北大学电子信息工程学院.河北,保定(071002))//固体电子学研究与进展.—2000,20(3).-281-290介绍了157 nm光学光刻技术、X射线光刻技术和角度限制散射电子束光刻技术的研究现状。