用发射光谱法连续摄谱检测铸铁中的硅、锰、镁

采用高压火花光源 ,一次预烧 ,连续摄谱的发射光谱法定量分析铸铁中硅、锰、镁三元素 ,加快了分析速度 ,可测定质量百分数为 1 5 0 %～ 3 5 0 %的硅、0 4 0 %～ 1 10 %的锰、0 0 10 %～ 0 0 90 %的镁 ,其相对标准偏差分别为硅 1 9%、锰 3 0 %、镁 10 4 %。