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磁控溅射-电沉积法制备连续泡沫铜工艺
1
作者
吴天和
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第23期1269-1270,共2页
采用卷状聚氨酯海绵为基体,经80℃烘干、磁控溅射铜导电化、焦磷酸盐电沉积铜和热处理,得到三维孔状结构均匀分布和物理性能良好的连续泡沫铜。
关键词
连续泡沫铜
磁控溅射
电沉积
物理性能
下载PDF
职称材料
题名
磁控溅射-电沉积法制备连续泡沫铜工艺
1
作者
吴天和
机构
梧州三和新材料科技有限公司
出处
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第23期1269-1270,共2页
文摘
采用卷状聚氨酯海绵为基体,经80℃烘干、磁控溅射铜导电化、焦磷酸盐电沉积铜和热处理,得到三维孔状结构均匀分布和物理性能良好的连续泡沫铜。
关键词
连续泡沫铜
磁控溅射
电沉积
物理性能
Keywords
continuous copper foam
magnetron sputtering
electrodeposition
physical property
分类号
TQ153.14 [化学工程—电化学工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
磁控溅射-电沉积法制备连续泡沫铜工艺
吴天和
《电镀与涂饰》
CAS
CSCD
北大核心
2019
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