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影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟 被引量:8
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作者 曹冲 冯国英 +4 位作者 杨李茗 王岚 高耀辉 朱海波 陈建国 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期67-71,共5页
利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速... 利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速比的作用最为显著。实现均匀磨削所需的压强应为二次型分布。这些为超精密环抛提供了指导,有助于实现主动控制。 展开更多
关键词 连续环行抛光 压强梯度 偏心距 转速比
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