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影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟
被引量:
8
1
作者
曹冲
冯国英
+4 位作者
杨李茗
王岚
高耀辉
朱海波
陈建国
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期67-71,共5页
利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速...
利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速比的作用最为显著。实现均匀磨削所需的压强应为二次型分布。这些为超精密环抛提供了指导,有助于实现主动控制。
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关键词
连续环行抛光
压强梯度
偏心距
转速比
下载PDF
职称材料
题名
影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟
被引量:
8
1
作者
曹冲
冯国英
杨李茗
王岚
高耀辉
朱海波
陈建国
机构
四川大学电子信息学院
成都精密光学工程研究中心
出处
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期67-71,共5页
文摘
利用Preston方程,考虑了超精密环抛中的诸因素,如工件和磨盘转速比、偏心距以及压强,计算模拟了它们对磨削效果的影响。模拟表明,当转速比越接近1或偏心距越大时,磨削越均匀;均匀分布的压强越大,磨削越不均匀。在这三个影响因素中,转速比的作用最为显著。实现均匀磨削所需的压强应为二次型分布。这些为超精密环抛提供了指导,有助于实现主动控制。
关键词
连续环行抛光
压强梯度
偏心距
转速比
Keywords
Continuous polishing
Pressure gradation
Eccentric distance
Rotating speed ratio
分类号
TQ171 [化学工程—玻璃工业]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
影响超精密环抛相对磨削量因素的计算模拟
曹冲
冯国英
杨李茗
王岚
高耀辉
朱海波
陈建国
《光电工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
8
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