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镍铜硫化物矿石中磁黄铁矿固溶体的退火及其选矿意义 被引量:4
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作者 顾连兴 赵明 吴昌志 《地质论评》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期261-264,共4页
磁黄铁矿固溶体从硫化物熔体结晶后,在缓慢冷却过程中经历了显著的退火。出溶和出溶体的粗化是固溶体退火的两种方式。叶片状的单斜磁黄铁矿和“火焰状”的镍黄铁矿原始出溶相在降温过程中均可发生退火和粗化。分布于磁黄铁矿等矿物粒... 磁黄铁矿固溶体从硫化物熔体结晶后,在缓慢冷却过程中经历了显著的退火。出溶和出溶体的粗化是固溶体退火的两种方式。叶片状的单斜磁黄铁矿和“火焰状”的镍黄铁矿原始出溶相在降温过程中均可发生退火和粗化。分布于磁黄铁矿等矿物粒间或包于磁黄铁矿粒内的粒状镍黄铁矿,不只是高温出溶的直接产物,有一部分可能是由火焰状出溶体粗化而成的。磁黄铁矿中单斜变体的出溶和粗化可使矿石的磁性发生改变,镍黄铁矿出溶体的粗化使含镍矿物的粒度加大。因而,退火作用对矿石的选矿工艺性能有着显著影响。 展开更多
关键词 镍铜硫化物矿石 磁黄铁矿固溶体 镍黄铁矿 选矿工艺 退火作用
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Stress-strain Analysis of p-type GaN Films Material
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作者 LIAO Xiu-ying ZHU Yan-ling +5 位作者 YANG Xiao-bo ZHAO Hong ZHAO Wen-bo ZHOU Xun ZOU Ze-ya ZENG Qing-gao 《Semiconductor Photonics and Technology》 CAS 2008年第4期224-228,273,共6页
The crystal quality of p-GaN film depends on the stress-strain during the process of material growth at a certain extent. A smooth high-quality GaN epitaxial layer was grown on sapphire substrate using standard low-te... The crystal quality of p-GaN film depends on the stress-strain during the process of material growth at a certain extent. A smooth high-quality GaN epitaxial layer was grown on sapphire substrate using standard low-temperature(LT) buffer layer by MOCVD. And by testing analysis of correlative experiments,we found that the stress-strain of p-type GaN could be changed by annealing,enhancing the crystal quality. 展开更多
关键词 MOCVD GAN 应力变化 退火作用
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