期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
新型稀硫酸退铬工艺
1
作者 曾宪雄 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 2002年第2期13-14,共2页
提出了一种新型稀硫酸退铬工艺。探讨了其作用机理 ,分析了硫酸、添加剂。
关键词 稀硫酸 退铬工艺 硫酸 添加剂 温度 电流密度
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部