金刚石膜在Si(100)衬底上的选择沉积

采用自行设计的微波等离子体化学气相沉积系统,利用铜网作为模板实现了在sj(100)衬底上金刚石膜的选择沉积。用场发射扫描电子显微镜(SEM)、Raman散射谱对样品进行了表征与分析。并与同样生长条件下未采用模板时得到的金刚石样品进行了比较。结果发现,采用模板后,金刚石膜的成核密度和质量都得到很大提高。

原子层沉积技术调控分子筛基催化剂研究进展

分子筛基催化剂在多相催化研究领域具有重要的应用,但调控活性中心粒子的结构及其在分子筛上的空间位置仍比较困难,是科研界和工业界共同面临的巨大挑战。原子层沉积(ALD)是一种先进的薄膜沉积技术,利用其自限制生长优势,可在原子级别实现对金属粒子生长过程的精准调控。本工作综述了ALD技术在制备分子筛基催化剂方面的应用,主要包括利用ALD技术控制活性位点在分子筛上的生长落位、修饰分子筛骨架结构以及选择性沉积膜调变分子筛表面结构。利用ALD技术设计和调控活性组分结构促进了分子筛基催化剂的发展,但由于分子筛孔道结构复杂且存在缺陷位,因此,ALD技术在分子筛基催化剂的设计调控及大规模应用方面仍具有挑战性,也是今后研究工作的重点。

基于RP技术的激光诱导选择性化学沉积微细加工技术的研究

在介绍快速成形技术以及微机电系统与微细加工技术的基础之上,对比分析了一些基于快速成形技术微细加工方法的优缺点及其最新研究成果。对于激光诱导选择性化学液相沉积快速成形技术的研究,首先从整个的系统原理到工艺流程进行详细地论述,并指出此技术所存在的一些优缺点。在普通玻璃上进行了激光诱导选择性化学液相沉积铜的试验,成功地沉积出点、线和面并实现了分层累加的沉积。在从激光诱导化学液相沉积技术的沉积原理和反应机理的分析到反应速率及沉积速率模型的建立的基础之上,进一步论证了激光诱导选择性化学沉积快速成形技术在三维微细加工方面的应用上是可行的。

银纳米树的选择性沉积及其催化性质

纳米银由于体积小、比表面积大及物理和化学性能独特而受到广泛关注[1,2].研究结果表明,纳米银的光学、电学和催化活性与粒子的粒径、形貌和结构之间存在强烈的依赖关系[3].

数控选择性电化学沉积快速成型装置的设计

数控选择性电化学沉积(NSE)快速成型是将电化学沉积和快速成型工艺相结合的一种新的加工工艺。根据数控选择性电化学沉积快速制造工艺原理,对其基本工艺过程进行分析,建立了制造工艺过程与设备机械系统之间的关系。装置主要由主支撑架、运动执行机构、电铸液循环系统、电沉积等部分组成。在此基础上完成了数控选择性电化学沉积快速制造工艺设备的研制。

钯选择性电沉积过程控制方式

因为吸氢严重 ,一般的沉积工艺得到的钯镀层上存在气孔、裂纹等缺陷。利用正交设计研究了钯选择性电沉积过程。发现在移动阳极的作用下 ,钯选择性电沉积中离子扩散速度加快 ,使控制步骤由一般电沉积的扩散和电化学联合控制转为主要由电化学控制。AFM观察表明 ,镀层没有出现裂纹和气孔 ,质量颇好。

二氧化硅膜的选择性沉积

本文介绍用二氧化硅膜的选择性沉积法来制造精细图形,可获得0.12μm,间距0.08μm的精细图形。文中具体介绍了制造工艺及沉积原理。

TiO_(2)纳米晶{001}面选择性沉积Co_(3)O_(4)及其光催化性能研究

TiO_(2)高光催化活性很大程度上取决于其高活性{001}晶面的暴露情况.目前的晶面调控工艺多为含氟路线,含氟形貌控制剂致癌且一定程度上会钝化催化剂表面.基于此,以钛酸钾纳米线为前驱体,(NH4)2CO3为形貌控制剂,通过改变(NH4)2CO3的浓度调控TiO_(2){001}和{101}晶面的暴露比例,并在此基础上选择性沉积Co_(3)O_(4),以进一步促进光生电子和空穴的分离.以罗丹明B为目标降解物,探究其光催化降解效率,研究表明TiO_(2){001}和{101}晶面的最佳暴露比例约为1∶9,Co_(3)O_(4)的最佳沉积量为0.018%,其光降解效率是商业P25的3.5倍.

选择性电沉积快速成形法

介绍了选择性电沉积快速成形法的研究现状和试验设备 ,该方法可用电解液喷射电沉积来生产金属部件 ,并对其中的关键性技术作了探讨。

晶体硅太阳电池的电化学沉积金属化技术研究进展

传统丝网印刷作为晶体硅太阳电池的栅极金属化工艺,在现今发展成本低、效率高的太阳电池背景下仍存在很多不足,如金属银价格高,阴影损失大等。近些年,通过电化学沉积过程来实现晶体硅太阳电池片表面金属化被广泛报道。该技术可以在电池片的正反面进行快速的选择性沉积,提高栅极与衬底的结合力的同时也降低了电阻率,并且利用铜替代银,大大降低了太阳电池的成本。本文总结了电化学沉积法制备晶体硅太阳电池片栅极的研究现状和发展趋势,同时介绍了未来该项技术在推广和应用中存在的机遇与挑战。

基体表面性质对原位聚合沉积导电聚苯胺薄膜性能的影响

以水溶性高分子聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为空间稳定剂,在经十八烷基三氯硅烷(OTS)改性的玻璃表面进行原位聚合,沉积得到导电聚苯胺(PANI)薄膜。采用表面界面张力仪、扫描电镜(SEM)、紫外可见光谱(UV-Vis)、红外光谱(FT-IR)、四探针电导率测试仪及光学显微镜对不同基体表面的接触角、PANI膜的形貌、厚度、结构、导电性及其在亲/憎水表面选择性沉积性能进行测定。结果表明:OTS对玻璃表面的改性促进了聚苯胺的沉积且提高了薄膜厚度,薄膜饱和厚度达到200 nm;缩短了溶液中苯胺分散聚合的诱导期,反应速率增大;与未改性玻璃表面沉积的薄膜相比,改性的玻璃表面得到的聚苯胺薄膜更加细密均匀,聚苯胺颗粒尺寸小,堆积紧密;薄膜的电导率达到7.5×10-3S/cm;OTS改性对基体表面的薄膜生长和溶液中的苯胺聚合具有催化作用。

微接触印刷法诱导沉积NH4Cl微图形结构

以聚二甲基硅氧烷有机硅橡胶(PDMS)为弹性印章,十八烷基三氯硅烷(OTS)的正已烷溶液为“墨水”,用微接触印刷技术使普通显微盖玻璃基片表面形成诸多具有不同浸润性的图形化微区,将基片放入氯化铵气体中沉积形成氯化铵微图形结构.讨论了沉积时间、基片表面预处理方式对微图形精细度的影响.

在导电高分子薄膜表面沉积密度可控的银纳米粒子

由于导电高分子的导电性和化学性质可以在导体和半导体区间内快速调节[1],因此其复合材料受到了越来越多的关注[2].金属纳米粒子在光电子器件、检测及传感等诸多领域表现出独特的性能[3],在生物技术领域中的重要性尤为突出[4].因此,如果将导电高分子和金属纳米粒子结合在一起,将有利于拓展导电高分子的应用范围.

以硅纳米孔柱阵列为模板制备金纳米薄膜

采用浸渍技术,分别以新鲜和老化两组硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)衬底为模板制备了不同形貌特征的Au/Si-NPA。结果表明:造成两组衬底上形成的Au/Si-NPA形貌上的巨大差异主要是由于两组Si-NPA衬底表面氧含量的分布不同所致。进一步分析发现,Si-NPA在Au/Si-NPA的形成过程中既起到了模板作用,又起到了还原的双重作用。由于Si-NPA具有规则的阵列结构,从而使得金在Si-NPA表面上的沉积速率产生选择性,最终可以形成准周期的、规则的金纳米复合薄膜。

纳米纤维选择性沉积

静电纺丝中的纳米纤维选择性沉积技术可提高材料的利用率,减少工序,降低成本。制作分别带圆、矩形和三角形孔三种不同形状的接地金属板作为收集板。实验结果表明:对于三种不同形状的孔,孔顶角(三角形和矩形)和孔周围的纳米纤维分布密度都比孔中间位置的大得多。这是由于喷射到收集板孔附近的带正电荷纳米纤维在孔周围不均匀电场作用下进行选择性沉积。在金属板上覆盖一层80微米厚塑料薄膜来沉积纳米纤维可得到同样的结果。该选择性沉积技术将为未来批量化纳米纤维喷射选择性沉积提供试验依据。

纳米间隙电极的加工研究进展

分类介绍了国内外加工纳米间隙电极的主要研究进展,并特别介绍了近期发展起来的一般光刻技术结合选择性化学沉积方法制备纳米间隙电极的研究结果,对今后的相关研究问题进行了讨论。采用选择性化学沉积技术制备镍双电极的间隙已可小于100nm。该技术对于制备纳米间隙电极具有一定的优势。

化学镀镍在红外焦平面制作中的应用

在非致冷红外焦平面制作过程中引入化学镀镍实现光敏元阵列与读出电路的互连.该方法具有选择沉积、不需要外部电源的优点.在32×32非致冷红外焦平面阵列器件的制作中采用化学镀镍方法可实现超过85%互连成功率.测试结果表明:该方法被证实为一种实现焦平面和读出电路互连的简单、可靠的方法.

基于单壁碳纳米管的压阻式柔性传感器

一维纳米材料与微结构结合的纳器件制造过程,实现了微纳加工工艺上的创新升级,有可能突破微米级器件的性能极限。首先利用传统的硅微加工技术,在综合性能优异的聚酰亚胺PI(Polyimide)薄膜上制作金(Au)微电极,形成排列有序的平行电极对;然后通过交流介电电泳的方法在微电极对间实现单壁碳纳米管SWNTs(Single-Walled Carbon Nanotubes)一维定向排布;接着采用区域选择性电沉积技术定域沉积Au压覆SWNTs,改善SWNTs与电极的接触特性。最后,针对基于SWNTs的柔性微纳传感器进行了力电特性测试。结果表明:在环境温度为(23±5)℃,湿度为65±15%RH,0.1 V工作电压下,压阻因子约为443,精度约为5.16%。上述研究结果在柔性微纳器件的制作方面显示了一定的应用前景,为实现超微型化和高功能密度化的柔性器件铺平道路。

低能电子束制备硅基纳米薄膜微结构研究

本文提出了一种新颖的结合自组装技术和电子束直写曝光以及选择性化学沉积制备图案化薄膜方法。利用X-射线光电子能谱(XPS),扫描电子显微镜(SEM),透射电子显微镜(TEM)紫外可见光谱仪(Analytic Jena AG)进行了表征。结果表明该方法取得了选择性较好的图案化金薄膜微结构图形。文中对胶体金纳米颗粒尺寸的选择以及金薄膜图案的粘附性能也进行了探讨。该方法有望应用于微/纳电子工业中。