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微流控芯片透光性基底SU8曝光工艺
被引量:
1
1
作者
朱学林
郭育华
+2 位作者
刘刚
田扬超
褚家如
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期426-430,共5页
研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响。研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的...
研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响。研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的解决光刻胶内非定义曝光区域出现感光交联的问题。
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关键词
微流控芯片
透光性基底
SU8光刻
原文传递
题名
微流控芯片透光性基底SU8曝光工艺
被引量:
1
1
作者
朱学林
郭育华
刘刚
田扬超
褚家如
机构
中国科学技术大学精密机械仪器系
国家同步辐射实验室
出处
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期426-430,共5页
基金
中国科学院王宽诚博士后工作奖励基金
中国科学院创新项目基金
文摘
研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响。研究结果表明,通过减少样品承载台表面对紫外光的反射,可有效的解决光刻胶内非定义曝光区域出现感光交联的问题。
关键词
微流控芯片
透光性基底
SU8光刻
Keywords
microfluidic chips
transparent substrate
SUB lithography
分类号
TB324 [一般工业技术—材料科学与工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微流控芯片透光性基底SU8曝光工艺
朱学林
郭育华
刘刚
田扬超
褚家如
《功能材料与器件学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008
1
原文传递
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