激光直写方法制作透明导电金属网栅

介绍了利用激光直写光刻技术在 2 0 0mm× 2 0 0mm基片上制作线宽为 5 μm ,周期为35 0 μm的红外透明导电金属网栅的工艺过程 ,对激光直写光刻技术和机械刻划掩模接触光刻制作金属网栅结构的两种方法进行了比较 。