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硅硼比对无毒低温透明釉上彩颜料熔剂显微结构的影响 被引量:1
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作者 卢希龙 陈云霞 +2 位作者 曹春娥 苗立峰 余峰 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2013年第12期55-57,61,共4页
采用TEM、ED及XRD等分析方法,研究了不同n(SiO2)/n(B2O3)对无毒低温透明熔剂显微结构的影响。结果表明:彩烤后的熔剂产生分相现象;当n(SiO2)/n(B2O3)比处于1及2.5时,熔剂分相不明显;在1.4~2.2时分相明显,硅硼比为2... 采用TEM、ED及XRD等分析方法,研究了不同n(SiO2)/n(B2O3)对无毒低温透明熔剂显微结构的影响。结果表明:彩烤后的熔剂产生分相现象;当n(SiO2)/n(B2O3)比处于1及2.5时,熔剂分相不明显;在1.4~2.2时分相明显,硅硼比为2.0时最为显著。高温下熔融后淬冷和自然冷却的熔剂看不到分相,熔剂中析出的是六方晶系的石英晶体,高分辨晶格条纹像表明其裸露出来的是低指数晶面(101)。 展开更多
关键词 硅硼比 透明熔剂 显微结构 无毒低温 釉上彩颜料
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