0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型

介绍用于 0 .35μm投影光刻机的逐场调平技术 ,讨论其检测和控制原理 ,并作精度分析 ;讨论逐场调平对套刻精度的影响 ,并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。

亚半微米投影曝光机的逐场调焦调平技术

介绍用于亚半微米分步重复投影曝光机的ＰＳＤ调焦调平、激光干涉调焦调平、多点高度测量传感和单光路多点检测等逐场调焦调平技术，较详细地阐述各技术原理、组成及能达到的精度，分析各种方法的优缺点和主要实用范围，为自主研制亚半微米分步重复投影曝光机的逐场调焦调平系统提供了参考方案。

高精度逐场调焦调平实时动态控制算法研究

主要介绍一种高精度逐场调焦调平实时动态控制算法。逐场动态精确求解耦合传递矩阵和解耦矩阵，将每个 Ｃ Ｈ Ｉ Ｐ的坐标位置和尺寸纳入耦合关系，使各控制回路实时独立调节，以满足系统稳定和高精度实时逐场调焦调平。

高精度逐场调焦调平控制系统数学模型分析

详细介绍了基于硅片ＣＨＩＰ中心坐标的高精度逐场调焦调平控制系统数学模型，并简要给出了系统控制算法。

六维磁悬浮纳米级精密工件台的研究

设计了"H"型六维x y工件台,利用磁悬浮技术将工件台悬浮在x、y导轨上,消除了导轨的摩擦和磨损;直线电机无接触驱动实现了工件台的粗定位;控制不同磁悬浮电磁铁的电流大小,可以实现工件台的微定位以及逐场调平调焦。计算了工件台由于重力弯曲、热膨胀等原因引起结构变形而带来的精度误差,理论上分析证明工件台在x、y方向能满足0.02μm的定位精度要求以及达到0.1μm调焦精度和3.0μrad调平精度的要求。将应用于特征尺寸0.18μm线宽激光光刻机上。

投影光刻机调焦调平传感技术的研究进展

阐述了投影光刻机调焦调平传感器的重要作用及其技术进展,详细介绍了国际上典型的调焦调平传感器,并对多种传感技术的光学原理和关键技术进行了分析和比较。