聚邻菲络啉合镍(Ⅱ)膜修饰电极测定痕量NO_2^-的研究

运用恒电位法在光谱纯石墨电极上制备了邻菲络啉聚合膜修饰电极。研究了聚邻菲络啉膜修饰电极对NO_2^-的催化氧化性能,建立了测定NO_2^-的新方法。NO_2^-的浓度在5.0×10^(-3)～5.0×10^(-5)mol/L范围內与催化氧化峰电流呈良好的线性关系,检测限为5.0×10^(-6)mol/L,并将此法运用至模拟生物环境中直接测定NO_2^-,实验效果良好。

络合吸附波测定痕量钼的研究

在ｐＨ４．５０的０．０５ｍｏｌ／ＬＨＡｃ－ＮａＡｃ介质中，研究了钼（Ⅵ）－邻菲络啉的极谱行为。钼（Ⅵ）－邻菲络啉（ｐｈｅｎ）配合物在２．５次微分极谱仪上于－０．５０Ｖ，－０．６７Ｖ处产生两个吸附还原波，后者的峰峰值ｅ″ｐｐ与钼（Ⅵ）浓度在２．０×１０－８～８．０×１０－６ｍｏｌ／Ｌ范围内呈线性关系，检出下限可达５．０×１０－１０ｍｏｌ／Ｌ。研究了配合物组成，极谱波的性质及其机理。应用该法测定豆类食品中的微量钼，选择性好，灵敏度高。

铜(Ⅱ)配合物与DNA作用的光谱法研究

采用紫外光谱和荧光光谱研究了配离子 [Cu(A) 2 ]2 +(其中A =邻菲络啉 ( phen) ,联吡啶 (bpy) ,乙二胺 (en) )与小牛胸腺DNA的相互作用。实验发现配合物的存在使DNA碱变性的 pH增大 ,变性后增色效应减小。EB DNA体系的荧光强度随 [Cu( phen) 2 ]2 +的加入迅速减弱。在DNA存在下 ,配离子被猝灭剂 [Fe(CN) 6]4-的发光猝灭程度减小。进一步研究了配体分子平面的大小对配合物与DNA作用的影响。结果表明 ,铜配合物与DNA之间发生了插入作用 ,且该作用随配体芳环平面的减小而减弱 ,即 [Cu( phen) 2 ]2 +>[Cu(bpy) 2 ]2 +>[Cu(en) 2 ]2 +。