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酞菁光盘染料的研究进展 被引量：17
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作者 彭必先 高德涛 闫天堂 《中国科学院研究生院学报》 CAS CSCD 2000年第1期43-56,共14页
总结了酞菁光盘染料近十几年的合成进展 ,以及其基本类型、结构与光物理性质之间的关系 ,并在应用方面总结了酞菁光盘染料结构与应用性能之间的关系 ,对其在CD R的应用前景方面作了简要分析 .
关键词 酞菁光盘染料 CD-R酞菁染料 光盘记录介质 存储介质 结构 光物理性质 卟啉衍生物
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