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用椭圆偏振光谱法研究取代基对酞菁薄膜光学常数的影响
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作者 于书坤 范昭奇 +3 位作者 夏道成 程传辉 白青龙 杜国同 《吉林大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期1277-1281,共5页
利用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪研究十六氟铜酞菁(F16CuPc)和铜酞菁(CuPc)薄膜的光学性质.在248-1 650 nm使用逐点拟合的方法对测得椭偏光谱进行分析,获得两种薄膜的折射率、消光系数、复介电常数和吸收系数.讨论了外环氟取... 利用M-2000UI型宽光谱可变入射角椭偏仪研究十六氟铜酞菁(F16CuPc)和铜酞菁(CuPc)薄膜的光学性质.在248-1 650 nm使用逐点拟合的方法对测得椭偏光谱进行分析,获得两种薄膜的折射率、消光系数、复介电常数和吸收系数.讨论了外环氟取代基对酞菁光学性质的影响,结果表明,共轭酞菁大环上的外围取代基对薄膜的响应波长和非正常色散影响较大.分析了两种酞菁的电子结构及吸收谱成因,并由吸收边外推得到两种材料的光学禁带宽度(Eg). 展开更多
关键词 光学常数 椭偏光谱 酞菁薄膜 取代基 介电常数
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亚酞菁薄膜的折射率和吸收特性 被引量:7
2
作者 王阳 顾冬红 干福熹 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期634-637,共4页
通过真空镀膜法在单晶硅片上制备了一种新的亚酞菁 (三硝基溴硼亚酞菁 )薄膜。利用全自动椭圆偏振光谱仪研究了该薄膜的椭偏光谱 ,测量了其复折射率、复介电常数和吸收系数 ,估算了薄膜在窗口区域的俘获能级并对其吸收谱的成因作了分析。
关键词 椭偏光谱 折射率 吸收系数 真空镀膜 单晶硅 酞菁薄膜 复介电常数
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一种用于光存贮的酞菁薄膜 被引量:4
3
作者 顾冬红 陈启婴 +3 位作者 舒菊坪 唐晓东 蒋模光 干福熹 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第1期56-58,共3页
本文研究了金属取代酞菁衍生物(MPc)真空蒸镀薄膜在可见及近红外区域的吸收光谱和光学常数。以该酞菁薄膜作为记录介质的5.25″光盘的动态特性测试表明,载噪比(CNR)大于43dB。
关键词 光存贮 有机染料 酞菁薄膜
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光存储酞菁薄膜的加速老化研究
4
作者 唐晓东 顾冬红 +1 位作者 陈启婴 干福熹 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期313-317,共5页
采用加速老化试验对光存储酞菁薄膜进行了寿命研究,以反射率的变化作为试验的判断依据。在55℃,85%RH;65℃,85%RH和75℃,85%RH的条件下,测试了反射率随时间的变化关系,用外推法估算出光存储酞菁薄膜的自然... 采用加速老化试验对光存储酞菁薄膜进行了寿命研究,以反射率的变化作为试验的判断依据。在55℃,85%RH;65℃,85%RH和75℃,85%RH的条件下,测试了反射率随时间的变化关系,用外推法估算出光存储酞菁薄膜的自然寿命。 展开更多
关键词 光存储 酞菁薄膜 加速老化
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旋涂法制备可溶性酞菁薄膜的光存储性能研究 被引量:8
5
作者 唐福龙 顾冬红 +6 位作者 陈启婴 唐晓东 朱从善 干福熹 沈淑引 刘恺 许慧君 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第11期853-856,共4页
研究了烷基取代的可溶性金属酞菁化合物Pr4MPc/PMMA的DIP薄膜的光谱特性和光存储性能.研究表明,该薄膜在可见光波段有优良的吸收和反射特性,以该薄膜作记录介质的5″光盘的静态测试显示其反射对比度大于35%,动态... 研究了烷基取代的可溶性金属酞菁化合物Pr4MPc/PMMA的DIP薄膜的光谱特性和光存储性能.研究表明,该薄膜在可见光波段有优良的吸收和反射特性,以该薄膜作记录介质的5″光盘的静态测试显示其反射对比度大于35%,动态测试信噪比大于40dB。 展开更多
关键词 旋涂法 可溶性 酞菁薄膜 光存储 光盘
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酞菁铜薄膜气敏光谱性能的研究
6
作者 于继荣 黄光周 +1 位作者 杨英杰 梁迪众 《仪表技术与传感器》 CSCD 北大核心 2002年第3期50-51,54,共3页
用真空升华方法制备酞菁铜 (CuPc)薄膜 ,并测量了薄膜在不同浓度的NH3 和乙醇气体中的透射光谱。实验发现CuPc薄膜对NH3 浓度的变化有很好的响应 ,但对乙醇浓度的变化不够敏感 ,特别是在高浓度时 ;退火处理不能改善膜片对乙醇的敏感性... 用真空升华方法制备酞菁铜 (CuPc)薄膜 ,并测量了薄膜在不同浓度的NH3 和乙醇气体中的透射光谱。实验发现CuPc薄膜对NH3 浓度的变化有很好的响应 ,但对乙醇浓度的变化不够敏感 ,特别是在高浓度时 ;退火处理不能改善膜片对乙醇的敏感性能 ,而使膜片对NH3 的响应变差。 展开更多
关键词 酞菁薄膜 气敏 透射光谱
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盐酸蒸气处理对酞菁氧钛薄膜的影响
7
作者 季振国 许倩斐 +2 位作者 朱玲 王龙成 芮祥新 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第2期94-96,共3页
用HC1蒸气对真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜进行了处理 ,并用UV Vis吸收谱、X射线光电子能谱 (XPS)和X射线衍射 (XRD)进行了分析。吸收谱结果表明HC1与酞菁氧钛蒸气作用后产生一个新的吸收峰 ,峰值位于 82 0nm附近。此峰的出现使得酞菁氧... 用HC1蒸气对真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜进行了处理 ,并用UV Vis吸收谱、X射线光电子能谱 (XPS)和X射线衍射 (XRD)进行了分析。吸收谱结果表明HC1与酞菁氧钛蒸气作用后产生一个新的吸收峰 ,峰值位于 82 0nm附近。此峰的出现使得酞菁氧钛光吸收带 (Q带 )加宽进入红外波段。光电子谱分析表明酞菁氧钛薄膜的成分发生了变化 ,其中Cl和O的含量随HC1蒸气处理时间的增加而增加 ,而N和Ti的含量随HC1蒸气处理时间的增加而减小 ,说明HC1蒸气可与真空蒸发沉积的酞菁氧钛薄膜发生作用。XRD测试结果表明 ,经HC1蒸气处理后的酞菁氧钛薄膜的衍射谱中出现了若干新的衍射峰 。 展开更多
关键词 盐酸蒸气 处理 酞菁氧钛薄膜 吸收带增宽 真空蒸发沉积 发敏性 有机光导材料 XPS XRD
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酞菁铜旋涂薄膜的形貌与光谱学性质研究
8
作者 李强 霍丽华 +1 位作者 高山 赵经贵 《光散射学报》 2003年第3期200-202,共3页
采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征。薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种... 采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征。薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种无序的状态,其Soret带吸收与氯仿溶液相比位置不变,而Q带的聚集体和单体的吸收峰红移约20nm。 展开更多
关键词 酞菁铜旋涂薄膜 表面形貌 光谱学性质 有机半导体气敏材料
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超高真空蒸发沉积酞菁铜薄膜的X光电子谱研究
9
作者 许倩斐 季振国 +2 位作者 袁骏 徐明生 汪茫 《真空电子技术》 2000年第1期36-40,共5页
在XTP分析室内利用超高真空蒸发方法在单晶硅衬底上沉积酞菁铜薄膜,并利用X光电子谱(XTP)作原位分析,研究酞菁铜薄膜的沉积规律,并讨论了不同条件下酞菁铜配合物分子组成及结构的变化。结果发现利用超高真空沉积方法得到酞菁铜为近化学... 在XTP分析室内利用超高真空蒸发方法在单晶硅衬底上沉积酞菁铜薄膜,并利用X光电子谱(XTP)作原位分析,研究酞菁铜薄膜的沉积规律,并讨论了不同条件下酞菁铜配合物分子组成及结构的变化。结果发现利用超高真空沉积方法得到酞菁铜为近化学计量,随着蒸发温度的升高,分子中Cu原子的含量逐渐减少,N原子的含量逐渐升高,苯环上的碳原子与类朴啉环上的碳原子的比例逐渐减少,这与酞菁铜分子中各原子的价键状态、酞菁铜分子的晶型及聚合程度有关。 展开更多
关键词 超高真空蒸发 X光电子谱 酞菁薄膜 沉积
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温度与电场作用对酞菁铜薄膜结构的影响
10
作者 游幼 赵湛 《薄膜科学与技术》 1992年第4期68-71,共4页
关键词 酞菁薄膜 退火 形貌 薄膜 结构
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酞菁铜蒸发镀膜工艺中膜厚控制参数的确定 被引量:1
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作者 张松 席曦 +4 位作者 李文佳 吴甲奇 顾晓峰 季静佳 李果华 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1075-1077,1125,共4页
基于目前采用的膜厚仪中缺少必要的有机材料的参数(密度和声阻抗),采用真空蒸镀法,在抛光硅片上蒸镀不同显示值厚度下的酞菁铜薄膜,利用椭偏仪测量其真实膜厚,并使用数学软件MATLAB,结合膜厚仪实时监控原理进行理论计算,拟合得到酞菁铜... 基于目前采用的膜厚仪中缺少必要的有机材料的参数(密度和声阻抗),采用真空蒸镀法,在抛光硅片上蒸镀不同显示值厚度下的酞菁铜薄膜,利用椭偏仪测量其真实膜厚,并使用数学软件MATLAB,结合膜厚仪实时监控原理进行理论计算,拟合得到酞菁铜薄膜的参数——声阻抗Zf=0.01 g/cm3.s,薄膜密度Df=6.68 g/cm3。验证实验结果表明,此参数输入膜厚仪中可以比较精确地控制薄膜厚度,显示值和实际测量值的差距约为3 nm。 展开更多
关键词 真空蒸镀 膜厚 声阻抗 薄膜密度 酞菁薄膜
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酞菁铜成膜特性的多重分形谱
12
作者 李淑红 王辅忠 欧建文 《物理实验》 北大核心 2011年第6期1-4,共4页
运用多重分形理论,研究了酞菁铜颗粒的团聚生长成膜特性.研究表明薄膜生长是远离平衡态过程,在团聚生长中,颗粒分布有很大随机性,存在大范围的非均匀区域,这些区域具有多重分形特征.测试了酞菁铜对二氧化氮的气敏特性,结果表明通气前后... 运用多重分形理论,研究了酞菁铜颗粒的团聚生长成膜特性.研究表明薄膜生长是远离平衡态过程,在团聚生长中,颗粒分布有很大随机性,存在大范围的非均匀区域,这些区域具有多重分形特征.测试了酞菁铜对二氧化氮的气敏特性,结果表明通气前后,涂膜通道的频率有明显移动. 展开更多
关键词 酞菁薄膜 团聚 多重分形谱
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层层自组装制备PANI/CuTsPc复合薄膜及其性能研究 被引量:2
13
作者 李晶 郑敏刚 +2 位作者 陈昶 隆泉 郑保忠 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第7期1115-1118,共4页
运用层层自组装技术制备了聚苯胺/磺化酞菁铜(PANI/CuTsPc)超分子复合薄膜,并通过紫外-可见-近红外吸收光谱、红外光谱、电导率测试仪与热分析仪对复合薄膜进行了分析表征以及导电性、光吸收与热稳定性能的研究。紫外-可见-近红外光谱表... 运用层层自组装技术制备了聚苯胺/磺化酞菁铜(PANI/CuTsPc)超分子复合薄膜,并通过紫外-可见-近红外吸收光谱、红外光谱、电导率测试仪与热分析仪对复合薄膜进行了分析表征以及导电性、光吸收与热稳定性能的研究。紫外-可见-近红外光谱表明,PANI与CuTsPc具有良好的层层自组装特性,沉积过程具有均匀性与重复性,复合薄膜在可见光区和近红外区均具有平而且宽的强吸收谱带;红外光谱表明,PANI和CuTsPc通过静电力的作用成功组装成膜,复合薄膜的共轭体系得到加强;电导率测试结果表明复合薄膜具有较高的电导率,达到了0.3S/cm;热分析结果表明CuTsPc组分的加入使复合薄膜具有良好的热稳定性。 展开更多
关键词 层层自组装 聚苯胺/磺化酞菁铜复合薄膜 光吸收 电导率 热稳定性
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薄膜光学理论
14
《中国光学》 EI CAS 1997年第3期74-74,共1页
O484.4 97031919酞菁钴薄膜的折射率及吸收特性=Refractive indexand absorption of cobalt phthalocyanine thinfilm[刊,中]/陈启婴,顾冬红,干福熹(中科院上海光机所.上海(201800))//光学学报.—1996,16(2).
关键词 酞菁薄膜 真空镀膜 吸收特性 折射率 单晶硅片 外延薄膜 中科院 上海 光学理论 学报
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蓝宝石衬底上酞菁铜薄膜的生长及相变研究 被引量:1
15
作者 张晋 晁美燕 +3 位作者 张世城 谭纪振 朱慧芬 赵家云 《云南大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期321-327,共7页
采用真空蒸发沉积方法在Al2O3衬底上生长CuPc薄膜,用X射线衍射、扫描电子显微镜、紫外-可见光分光光度计多种测试手段表征薄膜的结构,研究不同沉积速率、不同膜厚和衬底温度对CuPc薄膜结构的影响.研究结果表明:CuPc薄膜的晶粒尺寸随沉... 采用真空蒸发沉积方法在Al2O3衬底上生长CuPc薄膜,用X射线衍射、扫描电子显微镜、紫外-可见光分光光度计多种测试手段表征薄膜的结构,研究不同沉积速率、不同膜厚和衬底温度对CuPc薄膜结构的影响.研究结果表明:CuPc薄膜的晶粒尺寸随沉积速率的增大而减小,薄膜越厚,结晶度越高,CuPc薄膜退火温度约为250℃时发生相变,由原来的亚稳态α-CuPc晶型结构转变为稳定的β-CuPc晶型结构. 展开更多
关键词 酞菁薄膜 蓝宝石衬底 相变
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对以并五苯和酞菁铜为不同有源层的有机薄膜晶体管特性研究 被引量:1
16
作者 袁广才 徐征 +7 位作者 赵谡玲 张福俊 姜薇薇 黄金昭 宋丹丹 朱海娜 黄金英 徐叙瑢 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期5911-5917,共7页
通过扫描电镜和X射线衍射对SiO2衬底上生长并五苯和酞菁铜薄膜的表面形貌进行表征,并得到在SiO2衬底上生长的并五苯薄膜是以岛状结构生长,其大小约为100 nm,且薄膜有较好的结晶取向,呈多晶态存在.酞菁铜薄膜则没有表现出明显的生长机理... 通过扫描电镜和X射线衍射对SiO2衬底上生长并五苯和酞菁铜薄膜的表面形貌进行表征,并得到在SiO2衬底上生长的并五苯薄膜是以岛状结构生长,其大小约为100 nm,且薄膜有较好的结晶取向,呈多晶态存在.酞菁铜薄膜则没有表现出明显的生长机理,其呈非晶态存在.还对通过掩膜的方法制作得以酞菁铜和并五苯为有源层的顶栅极有机薄膜晶体管的特性进行了研究.有源层的厚度为40 nm,绝缘层SiO2的厚度为250 nm,器件的沟道宽长比(W/L)为20.通过Keithley 2410I-V测量仪对OTFTs器件的电学性质进行表征,其器件的开关电流比(on/off)分别为105和104,阈值电压VTH分别为-20 V和-15 V,器件的场效应载流子迁移率μEF分别为0.0694 cm2/V.s和1.201cm2/V.s. 展开更多
关键词 有机薄膜晶体管 并五苯薄膜 酞菁薄膜 场效应迁移率(μ_(EF))
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曙红Y/酞菁锌复合薄膜的非线性光学吸收 被引量:2
17
作者 陈刚 张震 +2 位作者 杨洪伟 孙旭 彭进 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第22期135-141,共7页
利用Z扫描技术研究了曙红Y、酞菁锌、曙红Y/酞菁锌复合薄膜的非线性吸收特性。在脉冲能量为130μJ、脉宽为4 ns、波长为532 nm的激光作用下,实验显示曙红Y具有较强的饱和吸收,酞菁锌具有较强的反饱和吸收,吸收特性随着质量分数的增加而... 利用Z扫描技术研究了曙红Y、酞菁锌、曙红Y/酞菁锌复合薄膜的非线性吸收特性。在脉冲能量为130μJ、脉宽为4 ns、波长为532 nm的激光作用下,实验显示曙红Y具有较强的饱和吸收,酞菁锌具有较强的反饱和吸收,吸收特性随着质量分数的增加而增强,重复测试表明两者都具有良好的稳定性。曙红Y/酞菁锌复合的聚乙烯醇(PVA)薄膜兼备饱和吸收与反饱和吸收特性,通过调整质量分数配比可调控透过率,调节材料的非线性吸收系数,实现材料限幅特性的“加法”。此种复合材料可用于新型光限幅器和光开关等光学器件。 展开更多
关键词 非线性光学 曙红Y/酞菁锌复合薄膜 可调节非线性吸收 Z扫描技术
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Studying the operation characteristics and structure of vertical channel copper-phthalocyanine organic semiconductor transistor
18
作者 朱敏 宋明歆 +4 位作者 桂太龙 王喧 殷景华 王东兴 赵洪 《Journal of Harbin Institute of Technology(New Series)》 EI CAS 2005年第4期378-382,共5页
The creation of Au/CuPe/Al/CuPc/strueture is a perpendicular type electricity found in the channel of organic static induction transistor. In the following we analyze transistor operation characteristics and machine s... The creation of Au/CuPe/Al/CuPc/strueture is a perpendicular type electricity found in the channel of organic static induction transistor. In the following we analyze transistor operation characteristics and machine structural relation. The results express that the transistor drives the voltage low and has no-saturation currentvoltage characteristics. Its operation characteristics are dependant on gate bias voltage and the construction of the aluminum eleetrode. The vertical ehannel of organic static induction transistor (OSIT) , with structure of Au/CuPc/Al/CuPc/ Cu, has been determined. According to the test results, the relation of its operation characteristics aud device structure was analyzed. The results show that this transistor has a low driving voltage and unsaturation Ⅰ-Ⅴ characteristies. Its operation characteristics are dependant on gate bias voltage and the structure of the aluminum electrode. 展开更多
关键词 thin film transistor copper phthalocyanine organic semiconductor
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Pentacene thin film transistor with low threshold voltage and high mobility by inserting a thin metal phthalocyanines interlayer 被引量:1
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作者 LI Yi LIU Qi +3 位作者 WANG XiZhang SEKITANI Tsuyoshi SOMEYA Takao HU Zheng 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2012年第2期417-420,共4页
We herein report the effective performance enhancement of the pentacene-based organic thin film transistors with silicon di- oxide dielectric by inserting a thin metal phthalocyanines interlayer between Au source/drai... We herein report the effective performance enhancement of the pentacene-based organic thin film transistors with silicon di- oxide dielectric by inserting a thin metal phthalocyanines interlayer between Au source/drain electrodes and the pentacene active layer. The threshold voltage decreased remarkably from ca. -20 V to a few volts (below -7.6 V) while the mobility in- creased 1.5-3 times after the insertion of the interlayer of only ca. 2 nm, which could be attributed to the reduction of the car- tier injection barrier. The results suggest a simple and effective way to achieve low-threshold-voltage pentacene-based organic thin film transistors with high mobility on silicon dioxide dielectric. 展开更多
关键词 low threshold voltage and high mobility pentacene-based organic thin film transistors metal phthalocyanines INTERLAYER
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