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酞菁铜旋涂薄膜的形貌与光谱学性质研究
1
作者
李强
霍丽华
+1 位作者
高山
赵经贵
《光散射学报》
2003年第3期200-202,共3页
采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征。薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种...
采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征。薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种无序的状态,其Soret带吸收与氯仿溶液相比位置不变,而Q带的聚集体和单体的吸收峰红移约20nm。
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关键词
酞菁铜旋涂薄膜
表面形貌
光谱学性质
有机半导体气敏材料
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职称材料
题名
酞菁铜旋涂薄膜的形貌与光谱学性质研究
1
作者
李强
霍丽华
高山
赵经贵
机构
黑龙江大学化学化工学院
出处
《光散射学报》
2003年第3期200-202,共3页
基金
国家自然科学基金(20101003)
黑龙江省青年攻关基金
黑龙江省海外学人重点项目
文摘
采用旋涂法制备了2,9,16,23-四-异丙氧基酞菁铜(CuPc(OC3H7-i)4)薄膜,利用AFM、UV-Vis和FT-IR对薄膜的表面形貌和光谱学性质进行了表征。薄膜表面结构是由约为216nm×55nm×4nm的清晰纳米畴组成,旋涂膜中酞菁铜分子是处于一种无序的状态,其Soret带吸收与氯仿溶液相比位置不变,而Q带的聚集体和单体的吸收峰红移约20nm。
关键词
酞菁铜旋涂薄膜
表面形貌
光谱学性质
有机半导体气敏材料
Keywords
copper phthalocyanine derivative
spin-coating film
spectroscopy property
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
TN304.5 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
酞菁铜旋涂薄膜的形貌与光谱学性质研究
李强
霍丽华
高山
赵经贵
《光散射学报》
2003
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