投影光刻机中气相分子污染物(AMC)的控制及检测

投影光刻机的性能直接决定了集成电路的特征线宽,随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,AMC将会越来越严重地影响圆片的加工质量和成品率,并会影响工作人员的身体健康。介绍AMC的分类、危害、控制方法及检测方法,为投影光刻机中AMC的有效控制提供参考。