印制电路板酸性蚀刻废液的膜电解再生

高度精细化线路和高层数印制电路板产量的增加,导致酸性蚀刻废液的排放量越来越大,对环境的负荷也随之增大。介绍了酸性蚀刻废液膜电解再生的基本原理,进行了中试规模的应用研究,并与其他电解再生方法进行技术与经济比较分析。结果表明,在槽电压为5V、电解时间为2h的条件下,酸性蚀刻废液的氧化还原电位由480mV升至540mV,所得铜粉的纯度大于99%。电解再生能耗约为627kW.h/t(以废液计),盐酸消耗量为30L/t(以废液计)。膜电解方法再生酸性蚀刻废液是可行的,预计将具有广阔的发展前景。

酸性蚀刻废液制备纳米铜粉及其稳定性研究

以酸性蚀刻废液为铜源,水合肼为还原剂,采用液相还原法制备纳米铜粉。研究发现,在氯离子的存在下,直接还原难以得到高纯度的铜粉。介绍了络合还原和除氯后还原两种铜粉制备方法,用铜粉导电率表征其抗氧化性能,并对两种方法制备的铜粉的稳定性进行了比较分析。

酸性蚀刻废液再生用钛基电极的电催化与耐腐蚀性能

采用热分解法制备出二氧化铱涂层钛阳极.采用循环伏安曲线、强化腐蚀等方法对酸性蚀刻废液再生用二氧化铱涂层钛阳极的电催化性能、耐腐蚀性能进行研究;应用恒流腐蚀等方法对阴极钛片在盐酸介质中的耐腐蚀性能进行了测试.结果表明,在氧化还原电位为498mV的典型酸性蚀刻废液中,二氧化铱涂层钛阳极表面Cu+的起始氧化电位为0.441V(相对饱和甘汞电极);在HCl质量浓度2mol/L、Cu2+质量浓度20g/L的溶液中,在电流密度0.12A/cm2的条件下,阴极钛片的吸氢腐蚀增量为0.32mg/(cm2.d).

酸性蚀刻废液中铜的形态分布及电化学行为

在氯化物体系中,Cu+、Cu2+均能与Cl-形成多种形态的配合物,存在形态及分布与溶液中各离子浓度有关。由于各种配合物的稳定性不同,致使Cu+、Cu2+氯化物的溶解度及电极电位也不同。对酸性蚀刻废液中铜的存在形态、电化学行为、以及采用隔膜电解法回收工艺的可行性进行了分析。

一种利用酸性蚀刻废液制备活性氧化铜粉的方法

本研究提出了一种利用酸性蚀刻废液制备活性氧化铜粉的方法,主要步骤有除杂、合成碱式氯化铜中间体、氨转生成氢氧化铜、氢氧化铜碱转生成氧化铜、水洗、烘干、煅烧,合成的氧化铜粉的Cu O%大于99.0%,具有较低的杂质含量和较快的溶解速率(小于30 s)。

从酸性蚀刻废液中回收盐酸及生产高纯电镀级硫酸铜的研究、应用

文章主要论述一种新型酸性蚀刻废液处理方法,在特制石墨蒸酸釜内加入定量的酸性蚀刻废液及98%硫酸,在蒸汽不断加热下使得反应液内部氯化氢气体不断逸出,通过冷凝回收盐酸,同时所得粗品硫酸铜通过重结晶除杂的方法得到高品味的电镀级硫酸铜。该处理工艺全过程无废水产生,回收盐酸回用于蚀刻液的配制,达到了资源回收利用之目的,所得铜产品提升了其附加值,是当前所有处置工艺中最环保的处理方法之一。

电路板酸性蚀刻废液电解再生新技术

介绍了～种印制电路板酸性蚀刻废液电解再生新技术。该技术是基于离子膜分离与阳极表面电催化氧化原理，可实现在线循环再生，同时产出具有商业价值的铜粉，避免了使用大量的氧化剂和盐酸，对环境友好，具有很高的推广应用价值。

利用新生态二氧化锰去除酸性蚀刻废液中砷最佳条件的研究

通过新生态MnO2去除酸性蚀刻废液中的砷的实验,找到最佳反应条件。实验结果证明:向每100 mL蚀刻废液直接加入0.8 g KMnO4的试剂投加方式、并加入8 mL 12.0%NH3.H2O,以及最加搅拌时间等条件下,砷的去除效果达到最佳。

酸性蚀刻废液中砷的去除及吸附剂再生研究

酸性蚀刻废液作为原料生产饲料级碱式氯化铜产品时,产品砷含量要求小于等于0.002%。依据酸性蚀刻废液含有还原性亚铜离子的水质特性,以高锰酸钾为氧化剂,通过氧化还原反应产生新生态二氧化锰,吸附去除废液中的砷。实验结果表明:除砷最佳终点p H值区间为2~2.5,高锰酸钾加入量大于等于0.64 kg/m^3时,砷去除率大于99%,溶液砷含量低于2 mg/L。高锰酸钾加入量为1.28 kg/m^3时,铜的损失率出现一个最高值(0.7%),锰离子的残留量出现一个最低值(0.8 mg/L)。产品铜含量、砷含量指标均优于GB/T21696-2008中的指标要求。含砷二氧化锰再生后,可用于废液的净化除砷。同等去除率,按锰元素折算,再生MnO_2锰用量比高锰酸钾的锰用量高出172%。

酸性蚀刻废液中氨氮的去除研究

主要研究线路板蚀刻加工产生的酸性蚀刻废液经铁粉置换出铜后产生的含氨氮酸性蚀刻废液中氨氮的去除。先采用氯酸钠将溶液中的二价铁离子氧化成三价铁离子,同时降低溶液中的游离酸含量,再用次氯酸钠氧化,除去溶液中的氨氮。考察次氯酸钠用量、次氯酸钠加药速度、反应时间对溶液中氨氮去除效果的影响。得出在次氯酸钠用量为理论用量3倍时基本能将溶液中的氨氮完全去除。

利用“双模法”回收及再生PCB酸性蚀刻废液的工业实践

本文介绍了“双模法”回收及再生酸性蚀刻废液的原理及工艺流程,对“双模法”进行了工业化试验,回收得到铜含量99.9%以上的阴极铜及铜含量65%以上的海绵铜粉,铜的回收率99%以上,从某PCB厂蚀刻制程产生的酸性蚀刻废液,利用“双模法”处理,其中的70%用膜电解法处理,30%用还原法处理,处理后的再生液蚀刻指标达到企业要求。

氯化铜酸性蚀刻废液的资源化利用

氯化铜酸性蚀刻废液是一种可以再次利用的资源,人们可以利用铁粉置换回收铜,再将产生的氯化亚铁转化成聚氯化铁,从而将蚀刻废液充分回收利用。试验结果表明,这种方式可以实现蚀刻废液的资源化利用,并且无三废产出,达到了清洁生产的要求。

酸性蚀刻废液制备棒状纳米碱式碳酸铜的技术研究

以酸性氯化铜蚀刻废液为原料,采用一步沉淀法,加入适量的表面活性剂,制备得到分散均匀的棒状纳米碱式碳酸铜。考查了原料稀释倍数、乙醇加入量、表面活性剂对纳米碱式碳酸铜的纯度、氯离子含量以及形貌的影响,并采用XRD、SEM对产品进行表征,结果表明:由酸性蚀刻液制备纳米碱式碳酸铜,加入乙醇10 mL,表面活性剂为PEG-2000,得到的碱式碳酸铜产品为分散均匀的棒状纳米颗粒,长100~200 nm,宽20~60 nm,且制备得到的纳米碱式碳酸铜的w(Cu^(2+))达55.5%以上,w(Cl^(-))低于0.01%。

膜电解法从模拟酸性蚀刻废液中回收铜粉

酸性蚀刻废液是一种印制电路板制作过程中产生的强酸、高铜的工业废水,对其回收利用具有较高的经济价值。采用膜电解法处理模拟酸性蚀刻废液,在阴极区回收铜粉。研究了铜粉的形成条件,考察了阴极液铜浓度、温度和电流密度对阴极电流效率的影响。结果表明,阴极液的铜浓度在20~25 g/L,温度为45~50℃,电流密度在11~12 A/dm2,阴极的电流效率最高。随着阴极液酸度的增加,铜粉的纯度提高,但阴极电效会降低。为保证较高的铜粉纯度及阴极电效,阴极液的酸度在0.32~0.36 mol/L为宜。

由酸性氯化铜蚀刻废液制备氢氧化铜工艺技术研究

以酸性氯化铜蚀刻废液、氢氧化钠为主要原料,在适宜的助剂存在下,采用一步沉淀法制备氢氧化铜。主要研究了pH对Cu2+回收率和产品纯度的影响,以及沉淀剂配比对产品纯度和洗水用量的影响,重点研究不同助剂对产品洗水用量的影响,确定了最佳工艺条件。XRD、TG及SEM等分析结果表明:实验所得产品成分单一,分散性较好,纤维堆积的微团形貌、粒径在4~11μm之间。化学分析结果表明:铜的回收率≥99.9%,所得Cu(OH)2纯度≥97.0%,符合工业用氢氧化铜的要求。

酸性氯化铜蚀刻废液制备硫酸铜工艺研究

研究了利用酸性氯化铜蚀刻废液制备氧化铜中间体,再由氧化铜制备硫酸铜的工艺。探究了pH值和反应温度对氧化铜纯度及氯含量的影响,结晶时间和硫酸浓度对硫酸铜纯度及回收率的影响。在最佳工艺条件下制备出的硫酸铜产品纯度为99.04%、氯含量约40×10^(-6),符合《工业硫酸铜》行业标准(HG/T 5215-2017)中优等品要求。

从蚀刻废液中隔膜电沉积金属铜板新工艺研究

以铜始极片为阴极、石墨板为阳极,在有以阳离子交换膜为隔膜的电解槽中,从酸性CuCl2蚀刻废液电沉积金属铜板。研究了阴极液中起始Cu2+浓度、起始Cl-浓度、阴极电流密度、电解温度和极距等因素对电沉积的影响。最佳条件为:起始Cl-浓度5.5 mol/L,起始H+浓度3.0 mol/L,添加剂0.2g/L,阴极电流密度350 A/m2,电解温度36℃,极距5 cm,Cu2+浓度从40 g/L降低至20 g/L。在最佳工艺条件下,阴极电流效率达到92.77%,平均槽电压小于3 V;阴极上可以得到平整致密的金属铜板。阴极电解废液中的Cu2+浓度降低到20 g/L左右,可返回蚀刻过程配制蚀刻新液。

印刷电路板蚀刻及含铜蚀刻废液处理技术研究进展

本文简述了印刷电路板的蚀刻工序、常用蚀刻液的组成,酸性氯化铜蚀刻液的蚀刻机理;介绍了酸性氯化铜蚀刻废液的回收利用方法及回收的主要产品等。