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高光泽度的硅酸腐片制备研究
1
作者
由佰玲
孙希凯
+4 位作者
邓春星
周迎朝
董楠
原宇乐
谢艳
《机车电传动》
北大核心
2021年第5期138-141,共4页
为提高酸腐片光泽度和实现稳定量产,通过优化硅单晶片加工流程,将双面研磨硅片进行旋转磨削加工,然后对该硅片进行酸性腐蚀;制备的酸腐片表面光泽度达到360 Gu以上(反射率大于98%),腐蚀液的寿命延长到50 000片;该制备技术使得酸腐片的...
为提高酸腐片光泽度和实现稳定量产,通过优化硅单晶片加工流程,将双面研磨硅片进行旋转磨削加工,然后对该硅片进行酸性腐蚀;制备的酸腐片表面光泽度达到360 Gu以上(反射率大于98%),腐蚀液的寿命延长到50 000片;该制备技术使得酸腐片的应用领域得到拓展,并降低生产成本和提高生产效率。
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关键词
酸腐片
旋转磨削
移除量
损伤层
反射率
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职称材料
题名
高光泽度的硅酸腐片制备研究
1
作者
由佰玲
孙希凯
邓春星
周迎朝
董楠
原宇乐
谢艳
机构
天津中环领先材料技术有限公司
出处
《机车电传动》
北大核心
2021年第5期138-141,共4页
文摘
为提高酸腐片光泽度和实现稳定量产,通过优化硅单晶片加工流程,将双面研磨硅片进行旋转磨削加工,然后对该硅片进行酸性腐蚀;制备的酸腐片表面光泽度达到360 Gu以上(反射率大于98%),腐蚀液的寿命延长到50 000片;该制备技术使得酸腐片的应用领域得到拓展,并降低生产成本和提高生产效率。
关键词
酸腐片
旋转磨削
移除量
损伤层
反射率
Keywords
acid etching wafer
rotating grinding
removal
damage layer
reflectivity
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高光泽度的硅酸腐片制备研究
由佰玲
孙希凯
邓春星
周迎朝
董楠
原宇乐
谢艳
《机车电传动》
北大核心
2021
0
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参考文献
引证文献
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