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太阳光谱选择性吸收涂层机理研究(Ⅰ)──采光涂层新型基料的研究 被引量:4
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作者 刘胜峰 秦广龙 +2 位作者 陈小平 李玮 孔荣贵 《涂料工业》 CAS CSCD 北大核心 1994年第4期14-18,共5页
本文对带有羟基的丙烯酸树脂改性硅聚合物,通过选择适当的实验条件使其接枝共聚,并将其作为采光涂料基料。改性基料与颜料匹配性良好,光学等性能优异,其红外辐射率较未改性的硅聚合物有较大幅度的降低。
关键词 太阳光谱 涂料型 采光涂层 基料
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