0.35μm分步重复投影光刻机气浮工件台研究

本文阐述了气浮工件台的组成、工作原理及控制方法 。

重复投影数据库下的优化挖掘方法研究与仿真

进行重复投影会使数据库中出现大量冗余数据,使得数据特征之间出现相似性干扰。传统的挖掘方法,遇到特征相似性情况时,以模糊规则建立挖掘关联规则,在建立模糊规则时,一旦特征过于接近,需要加入很多的约束条件,计算过程较为繁琐,导致数据挖掘准确性差、效率低的问题。提出基于贝努里模型的大量重复投影数据库下优化挖掘方法,依据等级分组识别重复投影数据,建立贝努里模型。根据冗余属性的贡献及区分能力的不同,确定两个分类贡献系数。依据两个先验概率值,依次放大两个分类贡献系数倍。通过改进贝努里事件模型中条件概率中的估计方法,划分大量重复投影数据库下的重复数据,实现大量重复投影数据库下的优化挖掘,提高数据搜索效率。仿真结果表明,改进方法不仅具有较优的挖掘性能,而且挖掘效率高。

0.8～1μm分步重复投影光刻机主要机构控制系统研制

传输片、预对准、调平及预调焦系统是分步重复投影光刻机的重要组成部分 ,其精度和运行可靠性对分步重复投影光刻机的整机性能指标将产生重大影响。介绍了 0 8～ 1 μm分步重复投影光刻机传输片、预对准、调平及预调焦控制系统的组成及控制软件 ;分析了预对准、机械手上片、调平及预调焦的精度和运行可靠性 ,并给出了研制结果。

0.8～1微米分步重复投影光刻机掩模库研制

掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性，该系统包括精密的气动部分、机械构件和8098单片机为核心的电子／电气自动控制系统。

0.35μm分步重复投影光刻物镜设计

介绍 0 .35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点 ,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点及设计结果。

多核重复背投影图像超分辨率方法

图像超分辨率算法目前最为通用的框架是基于Bayes估计的方法,其求解方法多归于重复背投影(插值)的迭代方法·在特定的成像条件下,基于训练的多核插值滤波器估计方法具有良好的效果·考虑采样过程对图像质量的影响,我们把多核插值滤波器估计方法引入到重复背投影的计算框架下,取得了优于单独使用一种方法的超分辨率结果·

基于线阵CCD的光刻机调焦调平系统的研究

介绍了一种基于线阵CCD的光刻机调焦调平系统,讨论了其检测和控制原理。介绍了调焦调平系统的光学结构,并建立起了理想的单点高度测量与整场调焦调平的算法模型。

提高整机套刻精度的软件处理方法

套刻精度是衡量分步重复投影光刻机的一项重要指标。套刻精度不仅取决于对准系统的对准精度，还受环境、工艺等因素的影响。提出了提高光刻机整机套刻精度的几种软件修正处理方法，通过工艺实验和考核，取得了比较满意的结果，证明了这些方法的可行性。

超微细加工及设备

TN305.7 97042750光电式动态光栅精密圆刻机=A precision photoelectricdynamic engraving machine for circularapparatus[刊,中]/张国范(中国航空精密机械所.北京(100076))//航空精密制造技术.—1996,32(6).—1-6介绍了一种刻划精度达±0.06″,采用圆光栅作角分度基准器,空气静压双半球轴系作主轴。

超微细加工及设备

TN305.7 97021357用化学方法制备硅场发射阵列=Preparation ofsilicon tips array[刊,中]/元光,金长春,金亿鑫,宋航,荆海,朱希玲,张宝林,周天明,宁永强,蒋红,王惟彪(中科院长春物理研究所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1996,17(4).—341—345利用各向同性腐蚀液制了硅微尖阵列。并考察了各主要工艺参数对微尖形貌的影响。图6参6(赵桂云)

微细加工技术与设备

TN305.7 99063930照明条件对光刻成像图形质量的影响=Influence ofilluminating coildition on quality of patterns im-aged with photolithographic systems[刊,中]/罗先刚,陈旭南,姚汉民,冯伯儒(中科院光电所.四川,成都(610209))∥98’中国青年光学学术讨论会.—陕西,西安,98.

微细加工技术与设备

TN305.7 20010429500.35μm分步重复投影光刻物镜设计=Design of 0.35μm step-and-repeat projection lighography objective[刊,中]/林妩媚,王效才(中科院光电技术研究所.四川,成都(610209))//光学学报.-2000,20(8).-1148-1150分析了0.35μm分步重复投影光刻物镜的设计要点,包括数值孔径、结构型式的确定、材料的选择。介绍了光刻物镜设计的难点、创新点及设计结果。

“微细加工光学技术国家重点实验室”简介

“微细加工光学技术国家重点实验室”简介ＡＢｒｉｅｆＩｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎｔｏｔｈｅＳｔａｔｅＫｅｙＬａｂｏｒａｔｏｒｙｏｆＯｐｔｉｃａｌＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙｆｏｒＭｉｃｒｏｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室...

‘93电子十大科技成果项目简介

‘９３电子十大科技成果项目简介计算机集成制造系统（ＣＩＭＳ）实验工程研制单位：清华大学推荐部门：国家教委ＣＩＭＳ实验工程是我国高科技自动化领域的重点建设项目，它包括两个集成实验室和七个分系统，是工厂自动化的发展方向和未来制造业工厂的模式，在计算机网络...

制版、光刻、腐蚀与掩模工艺

对分步重复投影半导体光刻机相位光栅对准信号作了详细的分析,提出了更加合理精确的计算模型,并与其他论文中的实验数据作了初步比较,模型与实验更加接近。

制版、光刻、腐蚀与掩模工艺

目前看来,193nm 光学光刻很有希望应用到0.13μm集成电路工业生产中去。本文从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机等方面对193nm 光学光刻技术进行了分析,并介绍了它目前的一些进展情况,最后对它的应用前景进行了简要分析。