0.35μm分步重复投影光刻机气浮工件台研究

本文阐述了气浮工件台的组成、工作原理及控制方法 。

0.8～1μm分步重复投影光刻机主要机构控制系统研制

传输片、预对准、调平及预调焦系统是分步重复投影光刻机的重要组成部分 ,其精度和运行可靠性对分步重复投影光刻机的整机性能指标将产生重大影响。介绍了 0 8～ 1 μm分步重复投影光刻机传输片、预对准、调平及预调焦控制系统的组成及控制软件 ;分析了预对准、机械手上片、调平及预调焦的精度和运行可靠性 ,并给出了研制结果。

基于线阵CCD的光刻机调焦调平系统的研究

介绍了一种基于线阵CCD的光刻机调焦调平系统,讨论了其检测和控制原理。介绍了调焦调平系统的光学结构,并建立起了理想的单点高度测量与整场调焦调平的算法模型。

超微细加工及设备

TN305.7 97042750光电式动态光栅精密圆刻机=A precision photoelectricdynamic engraving machine for circularapparatus[刊,中]/张国范(中国航空精密机械所.北京(100076))//航空精密制造技术.—1996,32(6).—1-6介绍了一种刻划精度达±0.06″,采用圆光栅作角分度基准器,空气静压双半球轴系作主轴。

超微细加工及设备

TN305.7 97021357用化学方法制备硅场发射阵列=Preparation ofsilicon tips array[刊,中]/元光,金长春,金亿鑫,宋航,荆海,朱希玲,张宝林,周天明,宁永强,蒋红,王惟彪(中科院长春物理研究所.吉林,长春(130021))//发光学报.—1996,17(4).—341—345利用各向同性腐蚀液制了硅微尖阵列。并考察了各主要工艺参数对微尖形貌的影响。图6参6(赵桂云)

微细加工技术与设备

TN305.7 99063930照明条件对光刻成像图形质量的影响=Influence ofilluminating coildition on quality of patterns im-aged with photolithographic systems[刊,中]/罗先刚,陈旭南,姚汉民,冯伯儒(中科院光电所.四川,成都(610209))∥98’中国青年光学学术讨论会.—陕西,西安,98.

‘93电子十大科技成果项目简介

‘９３电子十大科技成果项目简介计算机集成制造系统（ＣＩＭＳ）实验工程研制单位：清华大学推荐部门：国家教委ＣＩＭＳ实验工程是我国高科技自动化领域的重点建设项目，它包括两个集成实验室和七个分系统，是工厂自动化的发展方向和未来制造业工厂的模式，在计算机网络...

制版、光刻、腐蚀与掩模工艺

目前看来,193nm 光学光刻很有希望应用到0.13μm集成电路工业生产中去。本文从光源、照明系统、掩模、光刻胶、光刻机等方面对193nm 光学光刻技术进行了分析,并介绍了它目前的一些进展情况,最后对它的应用前景进行了简要分析。