景深对HAADF-STEM原子分辨率三维重构的影响

扫描透射电子显微镜高角环形暗场像通常被认为是样品内部结构的线性投影,被广泛地应用于倾转系列三维重构之中。但是,在像差校正电镜中,当电子束的横向分辨率提升到亚埃尺度时,其纵向景深也将缩小至纳米尺度。当景深小于样品的厚度时,高角环形暗场像将从样品内部结构的线性投影转变为样品内某一深度的光学层析。本论文通过理论模拟,研究了纳米尺度景深下原子分辨率三维重构的可行性。研究发现,当景深小于样品厚度时,三维重构技术只能正确重构样品中的局部区域。该区域的大小与入射电子束景深呈正相关,位置与入射束的欠焦量有关。另外,研究还发现实际正确重构的区域相对于电子束名义聚焦位置偏上,即存在提前聚焦现象,其偏离程度与样品内原子的原子序数、会聚角以及加速电压有关。当原子序数越大或会聚角越大时,其与名义聚焦位置偏离越大。

基于突变分析的周期——ARMA模型年降水量模拟

使用M-K法检验珠江流域云南片1956—2012年年降水量系列,发现该系列在2003年出现变少突变信号,以突变点为分界点,去除突变因素,重新构建年降水量系列。分别构建原系列及考虑突变因素新系列周期—ARMA线性组合模型并模拟计算,结果表明,考虑突变因素后,系列周期将发生一定变化,但有利于提高模型模拟精度。