金刚石聚晶碳膜场发射的场增强特征研究

利用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),在镀金属钛的纯平陶瓷衬底上制备出一层微米量级的类球状金刚石聚晶颗粒碳膜。通过拉曼光谱仪、X射线衍射仪分析了碳膜的成分,通过扫描电子显微镜观察了碳膜的外部形貌。最后利用场发射的二级结构装置测试了碳膜的场发射性能。讨论了金刚石聚晶碳膜的场发射机理,得出碳膜场发射性能优异的原因是金刚石聚晶碳膜表面存在强大的场增强现象。

金刚石薄膜的形成及其场发射特性研究

研究了金刚石聚晶碳膜的生长过程,以及不同生长阶段碳膜的场发射性能。通过磁控溅射法在陶瓷上镀一层金属钛作为制备碳膜的衬底,将衬底放入微波等离子体化学气相沉积腔中,经过不同的沉积时间制备出一系列的碳膜。利用SEM、Raman光谱仪、X射线衍射仪等仪器,对碳膜进行了形貌与成分分析,最后利用二极结构场发射装置,测试了碳膜的场发射性能。着重讨论了金刚石聚晶碳膜生长过程中的变化,并且对金刚石聚晶碳膜的场发射机理进行了深入研究。

两种金刚石碳膜的制备及其场发射特性研究

对相同的衬底进行不同的处理后,放入微薄等离子体腔中,在不同的条件下制备出纯平金刚石碳膜和球状金刚石聚晶颗粒碳膜。通过扫描电镜、拉曼光谱、X射线分析碳膜的形貌与结构,利用场发射二级结构研究两种金刚石碳膜的场发射性能。简单分析了不同碳膜的成因和场发射性能。

金刚石聚晶薄膜的场发射性能对比研究

以覆盖金属钛的陶瓷为衬底放入微薄等离子体腔中,在不同的条件下制备出三种金刚石聚晶碳膜。通过扫描电镜、拉曼光谱、X射线仪分析碳膜的形貌与结构,利用二级结构研究碳膜的场发射性能,得到发射性能最佳的薄膜。深入分析了三种碳膜的成因和场发射性能不同的原因,为优秀场发射阴极材料的制备做出一点贡献。