金刚石镶嵌非晶碳膜表面形貌对场致电子发射的影响

用微波等离子体化学气相沉积设备，在经过不同研磨预处理的金属钼衬底上沉积出了表面形貌有较大差异的金刚石镶嵌非晶碳膜，分别用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）、金相显微镜和Ｘ射线衍射谱（ＸＲＤ）以及Ｒａｍａｎ光谱对样品进行了分析测试．研究了各样品的场致电子发射特性，结果发现薄膜表面由大量镶嵌有金刚石小晶粒的非晶碳球组成，在我们的实验范围内，薄膜表面非晶碳球尺寸越小。

金刚石薄膜的微波CVD法制备及其场致发射

本文介绍了用微波ＣＶＤ技术沉积金刚石薄膜的设备和工艺条件，同时对金刚石薄膜的场致发射进行了初步研究。

埋砂法复合电镀金刚石磨轮

在镀镍溶液中利用镍离子电沉积将经过特殊处理的金刚石镶嵌到基体表面,经过低应力高整平的镀镍液快速电镀,使镀层包覆到金刚石粒度的65%～70%高度的厚度出槽。改撒砂法为埋砂法加工,克服了高铁轨道板磨轮镀后动平衡严重破坏的弊端,提高了使用性能。