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射频集成电路用高性能金属—绝缘体—金属电容的研究
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作者 张秋香 朱宝 丁士进 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2014年第1期13-19,共7页
随着无线通讯技术的快速发展,高性能金属-绝缘体-金属(MIM)电容器已引起人们的极大关注,成为下一代射频集成电路的必然选择。本文从MIM电容的技术背景、制备方法、绝缘介质的设计以及电极材料几个方面,对MIM电容器件的研究进展进行了较... 随着无线通讯技术的快速发展,高性能金属-绝缘体-金属(MIM)电容器已引起人们的极大关注,成为下一代射频集成电路的必然选择。本文从MIM电容的技术背景、制备方法、绝缘介质的设计以及电极材料几个方面,对MIM电容器件的研究进展进行了较全面的综述,可望为开发下一代射频集成电路用高性能MIM电容提供技术指导。 展开更多
关键词 金属—绝缘体—金属(MIM)电容 高介电常数 绝缘介质 电极
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五氧化二钽薄膜的I—V特性 被引量:5
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作者 王超 庄大明 +1 位作者 张弓 吴敏生 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期332-336,共5页
采用直流脉冲反应磁控溅射方法制备了高介电常数五氧化二钽(Ta_2O_5)薄膜。利用Ta/Ta_2O_5/Ta的MIM电容结构分析了Ta_2O_5的电学性能,研究了上电极面积对I-V特性的影响、I-V曲线的对称性和零点偏移以及薄膜缺陷和基底粗糙度对MIM电学性... 采用直流脉冲反应磁控溅射方法制备了高介电常数五氧化二钽(Ta_2O_5)薄膜。利用Ta/Ta_2O_5/Ta的MIM电容结构分析了Ta_2O_5的电学性能,研究了上电极面积对I-V特性的影响、I-V曲线的对称性和零点偏移以及薄膜缺陷和基底粗糙度对MIM电学性能的影响。结果表明,随着上电极面积增大,电容的漏电流密度增大,击穿场强减小。氧化钽薄膜中缺陷的存在和粗糙度增大容易引起漏电流增大,击穿强度降低。当上电极直径为1mm时,MIM电容的性能最佳:击穿强度为2.22MV/cm,漏电流密度低于1×10^(-8)A/cm^2。 展开更多
关键词 无机非金属材料 氧化钽薄膜 磁控溅射 金属—绝缘体—金属 I—V特性
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Large unsaturated positive and negative magnetoresistance in Weyl semimetal TaP
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作者 JianHua Du HangDong Wang +9 位作者 Qin Chen OianHui Mao Rajwali Khan BinJie XU YuXing Zhou YanNan Zhang JinHu Yang Bin Chen ChunMu Feng MingHu Fang 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第5期21-26,共6页
After successfully growing single-crystal TaP, we measured its longitudinal resistivity (Pxx) and Hall resistivity (Pyx) at magnetic fields up to 9 T in the temperature range of 2-300 K. At 8 T, the magnetoresista... After successfully growing single-crystal TaP, we measured its longitudinal resistivity (Pxx) and Hall resistivity (Pyx) at magnetic fields up to 9 T in the temperature range of 2-300 K. At 8 T, the magnetoresistance (MR) reached 3.28 ×10^5% at 2 K, 176% at 300 K. Neither value appeared saturated. We confirmed that TaP is a hole-electron compensated semimetal with a low carrier concentration and high hole mobility ofμh=3.71 × 105 cm2/V s, and found that a magnetic-field-induced metal-insulator transition occurs at room temperature. Remarkably, because a magnetic field (H) was applied in parallel to the electric field (E), a negative MR due to a chiral anomaly was observed and reached -3000% at 9 T without any sign of saturation, either, which is in contrast to other Weyl semimetals (WSMs). The analysis of the Shubnikov-de Haas (SdH) oscillations superimposed on the MR revealed that a nontrivial Berry's phase with a strong offset of 0.3958, which is the characteristic feature of charge carriers enclosing a Weyl node. These results indicate that TaP is a promising candidate not only for revealing fundamental physics of the WSM state but also for some novel applications. 展开更多
关键词 Weyl semimetal positive and negative magnetoresistance Weyl fermions
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