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金属化温度对掺锰铬陶瓷封接性能影响的研究
被引量:
1
1
作者
伍智
杨卫英
+2 位作者
李蓉
曾敏
邹桂娟
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第F11期332-334,共3页
研究了金属化烧结温度对掺锰铬陶瓷的封接性能的影响,初步分析了其影响原因与机理。结果表明:掺锰铬高氧化铝陶瓷对于MoMnSi配方的金属化反应活性高,1300℃是其最佳金属化温度,温度降低和升高都会导致封接性能降低。在最佳温度,金...
研究了金属化烧结温度对掺锰铬陶瓷的封接性能的影响,初步分析了其影响原因与机理。结果表明:掺锰铬高氧化铝陶瓷对于MoMnSi配方的金属化反应活性高,1300℃是其最佳金属化温度,温度降低和升高都会导致封接性能降低。在最佳温度,金属化层烧结致密,金属化层与陶瓷间形成了主要由锰尖晶石(MnO·Al2O3)和少量硅氧化物构成的过渡层结构,从而将金属化层与陶瓷有效地连接在一起。温度升高使金属化层过度收缩会形成大量孔洞,元素氧化加剧,不利于过渡层的形成,导致封接性能大大降低。
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关键词
锰铬陶瓷
金属化温度
封接性能
影响
机理
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职称材料
不同条件下陶瓷金属化瞬态温度场的计算
被引量:
1
2
作者
钟伟
邹桂娟
金大志
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第10期1200-1204,共5页
目前工业生产中,陶瓷金属化工艺条件的选择大多是经验性设定,对其如何影响金属化过程缺乏认识。针对于此,本文在前期所建立的陶瓷金属化氢炉的瞬态温度场计算模型基础上,考虑辐射和对流作用,计算陶瓷金属化过程中炉内的流动与传热问题,...
目前工业生产中,陶瓷金属化工艺条件的选择大多是经验性设定,对其如何影响金属化过程缺乏认识。针对于此,本文在前期所建立的陶瓷金属化氢炉的瞬态温度场计算模型基础上,考虑辐射和对流作用,计算陶瓷金属化过程中炉内的流动与传热问题,着重讨论了陶瓷件数量、氢气流量等条件对陶瓷金属化氢炉温度场的影响关系。结果表明,陶瓷件数量对同一位置金属化层最高温度影响较小(<2℃),但对炉温均匀性影响很大,不同位置陶瓷金属化层温度相差达到几十摄氏度。炉内加热一段时间后出现温度统一区(z<0.45 m),这一区域内的陶瓷金属化层最高温度几乎不受氢气流量的影响,金属化质量具有更好的一致性。
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关键词
氧化铝陶瓷
金属化温度
工艺条件
氢炉
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职称材料
题名
金属化温度对掺锰铬陶瓷封接性能影响的研究
被引量:
1
1
作者
伍智
杨卫英
李蓉
曾敏
邹桂娟
机构
中物院电子工程研究所
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第F11期332-334,共3页
基金
中物院电子工程研究所创新基金资助(项目编号S20050803)
文摘
研究了金属化烧结温度对掺锰铬陶瓷的封接性能的影响,初步分析了其影响原因与机理。结果表明:掺锰铬高氧化铝陶瓷对于MoMnSi配方的金属化反应活性高,1300℃是其最佳金属化温度,温度降低和升高都会导致封接性能降低。在最佳温度,金属化层烧结致密,金属化层与陶瓷间形成了主要由锰尖晶石(MnO·Al2O3)和少量硅氧化物构成的过渡层结构,从而将金属化层与陶瓷有效地连接在一起。温度升高使金属化层过度收缩会形成大量孔洞,元素氧化加剧,不利于过渡层的形成,导致封接性能大大降低。
关键词
锰铬陶瓷
金属化温度
封接性能
影响
机理
Keywords
ceramics dope with Mn and Cr, metalization temperature, seal properties, effect, mechanism
分类号
TQ174.758 [化学工程—陶瓷工业]
TN606 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
不同条件下陶瓷金属化瞬态温度场的计算
被引量:
1
2
作者
钟伟
邹桂娟
金大志
机构
中国工程物理研究院电子工程研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016年第10期1200-1204,共5页
文摘
目前工业生产中,陶瓷金属化工艺条件的选择大多是经验性设定,对其如何影响金属化过程缺乏认识。针对于此,本文在前期所建立的陶瓷金属化氢炉的瞬态温度场计算模型基础上,考虑辐射和对流作用,计算陶瓷金属化过程中炉内的流动与传热问题,着重讨论了陶瓷件数量、氢气流量等条件对陶瓷金属化氢炉温度场的影响关系。结果表明,陶瓷件数量对同一位置金属化层最高温度影响较小(<2℃),但对炉温均匀性影响很大,不同位置陶瓷金属化层温度相差达到几十摄氏度。炉内加热一段时间后出现温度统一区(z<0.45 m),这一区域内的陶瓷金属化层最高温度几乎不受氢气流量的影响,金属化质量具有更好的一致性。
关键词
氧化铝陶瓷
金属化温度
工艺条件
氢炉
Keywords
Al2O3 ceramic, Metallization temperature, Technology, Hydrogen-furnace
分类号
TN104.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
金属化温度对掺锰铬陶瓷封接性能影响的研究
伍智
杨卫英
李蓉
曾敏
邹桂娟
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
1
下载PDF
职称材料
2
不同条件下陶瓷金属化瞬态温度场的计算
钟伟
邹桂娟
金大志
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2016
1
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职称材料
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