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题名高温共烧陶瓷金属化膜厚影响因素分析
被引量:5
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作者
唐利锋
程凯
庞学满
张鹏飞
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机构
南京电子器件研究所
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出处
《电子与封装》
2018年第10期1-3,16,共4页
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文摘
金属化膜厚是影响高温共烧陶瓷电性能的重要因素之一。研究了高温共烧陶瓷钨金属化浆料粒度、丝网规格、印刷工艺参数和烧结温度对膜厚的影响。结果表明通过控制浆料中的金属颗粒粒径,提高印刷丝网丝径和涂布的感光膜层厚度,优化印刷刮刀移动速度和烧结温度可获得设计需要的金属化厚膜层。
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关键词
金属化膜厚
高温共烧陶瓷
丝网印刷
烧结温度
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Keywords
thickness of metallization film
high temperature co-fired ceramics
screen printing
sintering temperature
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分类号
TN305.94
[电子电信—物理电子学]
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题名AlN的厚膜铜金属化及其结合机理
被引量:2
- 2
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作者
张鹏飞
傅仁利
陈寰贝
梁秋实
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机构
南京电子器件研究所
南京航空航天大学材料科学与技术学院
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出处
《固体电子学研究与进展》
CSCD
北大核心
2017年第3期204-210,共7页
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文摘
采用反应厚膜法实现了AlN基板表面的铜金属化,借助SEM、XRD分别对烧结后的厚膜层、还原后的铜金属化层以及界面层的成分和形貌进行了研究;测试了不同烧结温度下金属化基板的敷接强度,并探究了界面层的形成过程以及对敷接强度的影响。结果表明:烧结过后,厚膜层的主要成分是CuO和Cu_2O;经过还原处理后,其表面成分转变为金属Cu;同时,随着烧结温度的上升,烧结后的厚膜层和还原后的金属化层的致密度均呈现先增加后降低的趋势,金属化铜层与基板之间的敷接强度也呈现相同的变化趋势。另外,在金属化铜层和AlN基板之间存在界面化合物,其主要成分是Cu_2O和中间化合物(CuAlO_2和CuAl_2O_4),其中,Cu_2O对敷接强度不利,而尖晶石结构的CuAl_2O_4和细小薄片状的CuAlO_2对敷接强度的有利。
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关键词
ALN基板
厚膜金属化
敷接强度
中间化合物
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Keywords
AlN substrate
thick film metallization
Adhesion strength
intermediate phase
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
TN454
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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