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混合失配模型预测金属/半导体界面热导 被引量:5
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作者 宗志成 潘东楷 +4 位作者 邓世琛 万骁 杨哩娜 马登科 杨诺 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2023年第3期123-130,共8页
声学失配模型和漫散射失配模型被广泛应用于界面热导的计算,两种模型分别建立在极端光滑和粗糙界面的假设基础上.由于实际界面结构与两种假设的区别较大,造成两种模型预测结果与实际界面热导偏差较大.近期提出的混合失配模型考虑了界面... 声学失配模型和漫散射失配模型被广泛应用于界面热导的计算,两种模型分别建立在极端光滑和粗糙界面的假设基础上.由于实际界面结构与两种假设的区别较大,造成两种模型预测结果与实际界面热导偏差较大.近期提出的混合失配模型考虑了界面结构对声子镜面透射和漫散射透射比例的影响,预测的准确度有所提高.但该模型需要通过分子动力学模拟获取界面声子信息较为复杂.为此,本文通过引入测量的粗糙度数值简化混合失配模型,并增加考虑界面结构对接触面积的影响,实现对界面热导简单快捷、准确地预测.基于该模型,计算预测了金属(铝、铜、金)和半导体(硅、碳化硅、砷化镓、氮化镓)的界面热导.并将铝/硅界面的结果与实验测量结果对比,数据吻合较好.该模型不仅有助于界面导热机理的理解,而且利于与测量结果对比. 展开更多
关键词 界面热导 界面热阻 金属/半导体界面 声学失配模型 漫散射失配模型
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电子显微镜在金属-半导体纳米线界面原位合金化中的应用
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作者 王岩国 《分析仪器》 CAS 2012年第5期23-27,共5页
利用原位电子显微方法研究了金属-ZnSe半导体纳米线界面合金化过程,结果表明:在脉冲电流的作用下,ZnSe纳米线可以产生明显的焦耳热效应,导致金属-ZnSe纳米线界面发生合金化反应。通过调整纳米线与金属电极的接触面积,可将焦耳热效应准... 利用原位电子显微方法研究了金属-ZnSe半导体纳米线界面合金化过程,结果表明:在脉冲电流的作用下,ZnSe纳米线可以产生明显的焦耳热效应,导致金属-ZnSe纳米线界面发生合金化反应。通过调整纳米线与金属电极的接触面积,可将焦耳热效应准确控制在界面内,进而实现纳米尺度的合金化反应。 展开更多
关键词 电子显微镜 原位合金化 金属-半导体界面
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金属/绝缘层/半导体纳米结构内电子传输的光电子模型的构建
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作者 于泽鑫 王加勇 《光电子》 2023年第4期103-111,共9页
基于金属/半导体纳米器件内的电子悖向运动且迁移路径复杂的问题,绝缘层被引入成为“单向壁垒”促使热电子单向隧穿且阻隔光生电子的传递。为有效表征局域表面等离激元共振效应的产生和激发出的热电子的单向隧穿,该文基于传统的漂移-扩... 基于金属/半导体纳米器件内的电子悖向运动且迁移路径复杂的问题,绝缘层被引入成为“单向壁垒”促使热电子单向隧穿且阻隔光生电子的传递。为有效表征局域表面等离激元共振效应的产生和激发出的热电子的单向隧穿,该文基于传统的漂移-扩散方程,解析半导体-光电子物理场的耦合过程,结合Wentzel-Kramers-Brillouin隧穿条件,建立电子隧穿的载流子浓度方程组,为界面电荷传输的新型可视化表征方法的提出奠定了理论基础。 展开更多
关键词 数学物理模型 电子传输 COMSOL Multiphysics 金属/半导体界面
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金属/有机半导体界面偶极层的研究
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作者 潘艳芝 李宏建 +1 位作者 周伟昌 戴小玉 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期1061-1064,共4页
利用金属/无机半导体界面模型对金属/有机半导体界面偶极层进行了数值研究.讨论了界面处金属/有机半导体原子间距与化学键密度对界面偶极能的影响;分析了界面层电场强度随化学键密度变化的原因;对界面偶极能与金属功函数之间的关系给出... 利用金属/无机半导体界面模型对金属/有机半导体界面偶极层进行了数值研究.讨论了界面处金属/有机半导体原子间距与化学键密度对界面偶极能的影响;分析了界面层电场强度随化学键密度变化的原因;对界面偶极能与金属功函数之间的关系给出了合理的解释. 展开更多
关键词 金属/有机半导体界面 偶极能 功函数
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TOF-SIMS法研究金属-半导体界面 被引量:2
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作者 肖和平 王宇 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 2017年第6期443-450,共8页
飞行时间二次离子质谱仪(Time of flight secondary ion mass spectrometry,TOF-SIMS)对所有元素具有极高的检测灵敏度,应用此方法研究了经550℃退火处理,Au/AuBe/Au与GaP金属-半导体的各元素强度分布特性,依次分析金属表面、金属层内... 飞行时间二次离子质谱仪(Time of flight secondary ion mass spectrometry,TOF-SIMS)对所有元素具有极高的检测灵敏度,应用此方法研究了经550℃退火处理,Au/AuBe/Au与GaP金属-半导体的各元素强度分布特性,依次分析金属表面、金属层内、金属-半导体界面、半导体内部,使用O2+正离子与Cs+负离子分析Au、Be、O、Ga、P五类元素在各层内的强度,观察金属层与半导体界面内Be、O、Au、P峰位置的各元素SIMS图,表明在金属表面3~10nm内含有Au、Be、O、Ga、P元素,在金属内部,O元素在AuBe层有明显分布,在半导体材料GaP层内含有Be、Au元素,且Be的扩散深度比Au要深,在AuBe层及界面处用XPS分析化学组分。 展开更多
关键词 飞行时间二次离子质谱仪 退火处理 强度分布 金属-半导体界面
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金属-砷化镓界面的电调制反射光谱与Franz-Keldysh效应研究
6
作者 王斌 徐晓轩 +2 位作者 秦哲 宋宁 张存洲 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期1701-1704,共4页
通过调制光谱这种基础的光学方法来研究Au-GaAs,Al-GaAs,Ni-GaAs的金属半导体界面的一些电学性质,并且加以比较,其中包括电场、费米能级扎钉和界面态密度等情况。这些界面是通过在SIN+GaAs样品上沉积金属(Au,Al,Ni)生长成的。通过观察... 通过调制光谱这种基础的光学方法来研究Au-GaAs,Al-GaAs,Ni-GaAs的金属半导体界面的一些电学性质,并且加以比较,其中包括电场、费米能级扎钉和界面态密度等情况。这些界面是通过在SIN+GaAs样品上沉积金属(Au,Al,Ni)生长成的。通过观察电反射谱来研究金属GaAs的界面电场和费米能级扎钉的情况,然后通过傅里叶变换这些所取得的电反射谱来分析这些材料的界面性质。通过测量氦氖激光器诱导产生的光电压和激光器光强之间的关系来得到这些材料的界面态密度情况,从而进行进一步的研究。 展开更多
关键词 金属半导体界面 FRANZ-KELDYSH效应 光伏效应 电调制反射谱
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金属/碲镉汞接触研究的发展 被引量:1
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作者 王忆锋 刘黎明 +1 位作者 孙祥乐 王丹琳 《红外》 CAS 2012年第5期7-22,共16页
介绍了金属/碲镉汞(Hg_(1-x)Cd_xTe,MCT)接触研究的发展状况,包括基本概念、生长结构、化学活性以及电学性能。金属/MCT接触有两类:一类是电子(欧姆)接触,另一类是整流(Shottky)接触。欧姆接触是MCT红外探测器的一个重要组成部分,它决... 介绍了金属/碲镉汞(Hg_(1-x)Cd_xTe,MCT)接触研究的发展状况,包括基本概念、生长结构、化学活性以及电学性能。金属/MCT接触有两类:一类是电子(欧姆)接触,另一类是整流(Shottky)接触。欧姆接触是MCT红外探测器的一个重要组成部分,它决定了器件的性能和可靠性。欧姆接触的电阻小,与MCT黏附性好,并且在热循环条件下可保持性能稳定。由于需要具有较大功函数的接触金属,p型MCT很难实现,而n型MCT则可以用很多金属实现。 展开更多
关键词 金属/半导体接触 金属/半导体界面 金属/碲镉汞接触 欧姆接触 碲镉汞红外探测器
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降低金属与n型Ge接触电阻方法的研究进展
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作者 周志文 沈晓霞 李世国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第1期10-15,31,共7页
Ge材料中n型杂质激活的电子浓度偏低,以及费米能级钉扎效应导致的金属与n型Ge接触电子势垒高度偏大,使金属与n型Ge接触电阻较大。基于Ge的材料特性,分析了缺陷对杂质浓度以及费米能级钉扎对电子势垒高度的影响;综述了提高Ge材料中n型掺... Ge材料中n型杂质激活的电子浓度偏低,以及费米能级钉扎效应导致的金属与n型Ge接触电子势垒高度偏大,使金属与n型Ge接触电阻较大。基于Ge的材料特性,分析了缺陷对杂质浓度以及费米能级钉扎对电子势垒高度的影响;综述了提高Ge材料中n型掺杂电子浓度的方法,如激光退火、磷和锑共掺、循环离子注入/退火、氟钝化等;讨论了降低金属与n型Ge接触电子势垒高度的途径,即插入薄的界面层形成金属-界面层-Ge接触。电子浓度的提高,以及电子势垒高度的降低,有效地减小了金属与n型Ge接触电阻。 展开更多
关键词 锗(Ge) N型掺杂 金属-界面层-半导体接触 金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET) 接触电阻
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绝缘层LiF/Al电极对提高P-PPV发光器件发光性能的研究 被引量:2
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作者 林海波 徐晓轩 +3 位作者 吴宏滨 王斌 俞钢 张存洲 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期469-472,共4页
为了提高聚合物电致发光器件中Ba(Ca)/A l阴极的稳定性,在该阴极与聚合物发光材料poly(2-(4-ethylexyl)phenyl-1,4-phenylene vinylene)(P-PPV)层之间插入一层7 nm的L iF绝缘层,发光器件的发光性能在多项参数(发光器件的电压-电流特性... 为了提高聚合物电致发光器件中Ba(Ca)/A l阴极的稳定性,在该阴极与聚合物发光材料poly(2-(4-ethylexyl)phenyl-1,4-phenylene vinylene)(P-PPV)层之间插入一层7 nm的L iF绝缘层,发光器件的发光性能在多项参数(发光器件的电压-电流特性、发光强度及外量子效率,以及电流效率等发光性能指标)上能够与工作性能优良但稳定性较差的Ba(Ca)/A l电极结构PLED s器件的发光特性具有可比性。这对于研制高效率、高稳定的聚合物电致发光器件并最终将其用于商业目的,具有重大现实意义。 展开更多
关键词 聚合物发光二极管 P-PPV LIF 金属-半导体界面
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n-GaN肖特基势垒紫外光探测器的电子辐照效应
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作者 刘畅 袁菁 +2 位作者 钟志亲 伍登学 龚敏 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期26-29,共4页
研究了n型Au/GaN肖特基势垒紫外光探测器的电子辐照失效机理。从实验中观测到,随着电子辐照注量的不断增加,Au/GaN间辐照诱生的界面态引起器件的击穿电压明显减小,反向漏电流逐渐增大。辐照诱生的深能级缺陷导致紫外光探测器对较长波长... 研究了n型Au/GaN肖特基势垒紫外光探测器的电子辐照失效机理。从实验中观测到,随着电子辐照注量的不断增加,Au/GaN间辐照诱生的界面态引起器件的击穿电压明显减小,反向漏电流逐渐增大。辐照诱生的深能级缺陷导致紫外光探测器对较长波长光的吸收,使得UV探测器中可见光成分的背景噪声增加。同时,对辐照后的 GaN 肖特基紫外光探测器进行了100℃以下的退火处理,退火后,器件的电流 电压特性有所改善。 展开更多
关键词 GaN紫外光探测器 肖特基势垒 电子辐照 辐照失效 金属/半导体界面 退火
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n-GaN肖特基势垒光敏器件的电子辐照效应 被引量:3
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作者 刘畅 王鸥 +2 位作者 袁菁 钟志亲 龚敏 《光散射学报》 2005年第2期159-163,共5页
本文主要研究了n型GaN肖特基紫外光敏器件(包括GaN肖特基势垒紫外探测器,GaN肖特基二极管)的电子辐照效应和失效机理,以及辐照后二极管对不同波长光的光敏特性的变化。从实验中观测到,随着辐照注量的不断增加,GaN光敏器件的击穿电压明... 本文主要研究了n型GaN肖特基紫外光敏器件(包括GaN肖特基势垒紫外探测器,GaN肖特基二极管)的电子辐照效应和失效机理,以及辐照后二极管对不同波长光的光敏特性的变化。从实验中观测到,随着辐照注量的不断增加,GaN光敏器件的击穿电压明显减小,反向漏电流逐渐增大。证实了辐照后Au/GaN间产生的界面态是引起GaN肖特基势垒光敏器件辐照失效的原因。另外,在研究辐照效应对GaN肖特基二管光敏特性的影响时观测到,经过一定剂量的辐照后,GaN肖特基二管能探测到380nm的紫外光和可见光,而在辐照以前,它是探测不到的。这说明辐照效应将导致肖特基势垒光敏器件对较长波长的吸收,使得UV探测器中可见光成分的背景噪声增加。 展开更多
关键词 GaN光敏器件 电子辐照 紫外探测器 肖特基二极管 辐照失效 金属/半导体界面
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Probing Co/Si interface behaviour by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and atomic force microscopy (AFM)
12
作者 PAN J. S. LIU R. S. TOK E. S. 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 2006年第4期202-211,共10页
In this work, we investigate the Co-Si reaction, the Co growth mode at room temperature, diffusion be- haviour as well as morphology evolution during annealing on both H-terminated and clean Si(001) and Si(111) sur- f... In this work, we investigate the Co-Si reaction, the Co growth mode at room temperature, diffusion be- haviour as well as morphology evolution during annealing on both H-terminated and clean Si(001) and Si(111) sur- faces. From in-situ X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) investigation, “Co-Si” reaction appears to occur on both H-terminated and clean surfaces at room temperature (RT) and the silicide crystallinity is improved upon annealing. Co growth mode on H-terminated Si surfaces occurs in a pseudo layer-by-layer manner while small close-packed is- land growth mode is observed on the clean Si surface. Upon annealing at different temperatures, Co atom concentra- tion decreases versus annealing time, which in part is attributed to Co atoms inward diffusion. The diffusion behav- iour on both types of surfaces demonstrates a similar trend. Morphology study using ex-situ atomic force microscopy (AFM) shows that the islands formed on Si(001) surface after annealing at 700 °C are elongated with growth direc- tions alternate between the two perpendicular [ 110 ] and [110] directions. Triangular islands are observed on Si (111) surface. 展开更多
关键词 金属-半导体界面反应 X射线光电子光谱学 原子力显微镜方法 表面形态
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Phonons in Quantum-Dot Quantum Well
13
作者 QINGuo-Yi 《Communications in Theoretical Physics》 SCIE CAS CSCD 2004年第4X期609-618,共10页
Phonon modes of AlAs/GaAs/AlAs and GaAs/AlAs/metal Pb quantum-dot quantum wells (QDQW's)with the whole scale up to 90 A are calculated by using valence force field model (VFFM) based on group theory.Their optical ... Phonon modes of AlAs/GaAs/AlAs and GaAs/AlAs/metal Pb quantum-dot quantum wells (QDQW's)with the whole scale up to 90 A are calculated by using valence force field model (VFFM) based on group theory.Their optical frequency spectra are divided into two nonoverlapping bands, the AMs-like band and the GaAs-like band,originated from and having frequency interval inside the bulk AlAs optical band and bulk GaAs optical band, respectively.The GaAs-LO (F)-like modes of QDQW's that have maximum bulk GaAs-LO (F) parentages in all modes covering the whole frequency region and all symmetries have always A1 symmetry. Its frequency is controllable by adjusting the structure parameters. In AlAs/GaAs/AlAs, it may be controlled to meet any designed frequency in GaAs-like band.The results on GaAs/AMs/metal Pb QDQW's show the same effect of reducing in interface optical phonons by using the metal/semiconductor interface revealed ever by macroscopic model. The frequency spectra in both GaAs-like and AlAs-like optical phonon bands are independent of the thickness of Pb shell as long as the thickness of Pb shell is no less than 5 A. Defects at metal/AlAs interface have significant influence to AMs-like optical modes but have only minor influence to GaAs-like optical modes. All these results are important for the studying of the e-ph interaction in QD structures. 展开更多
关键词 量子点量子阱 声子 金属-半导体界面 半导体量子点结构 砷化镓/砷化铝材料
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