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薄层金属晶粒结构定量分析技术研究 被引量:1
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作者 焦慧芳 肖庆中 施明哲 《电子产品可靠性与环境试验》 1998年第6期20-23,共4页
本文论述了薄层金属晶粒结构定量分析技术的重要性,国内外研究动态,并结合本实验室的软、硬件,阐述了计算机图像分析技术的测试原理,测试程序,同时给出了应用实例,取得了有意义的结果。
关键词 薄层 金属晶粒结构 VLSI IC 计算机图像分析
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