金属银对光子晶体光吸收的增强效应

构造含金属银缺陷的光子晶体模型(AB)m AGA(BA)m,利用传输矩阵法理论,通过计算机计算仿真的方式,研究了金属银缺陷对光子晶体光吸收特性的增强效应,发现当光子晶体中引入金属银缺陷后,光子晶体的光反射率和吸收率均得到增强。在400~1400 nm范围内,平均反射率增强到93.87%,平均吸收率增强到6.13%,且吸收率大小和位置可调。随着周期数m或B介质层厚度d B增大,光子晶体的光吸收率均得到增强,当m=5时吸收率高达98.72%,当d B=118.52 nm时吸收率高达99.59%,且吸收峰的位置随m增大向短波方向移动,但随d B增大向长波方向移动。随着光入射角度θ增大,光子晶体的光吸收率先增强到极大值后再逐渐减弱,且吸收峰的位置随入射角θ增大向短波方向移动。随着A介质层厚度d A增大,光子晶体的光吸收率减弱,当d A=73.22 nm时吸收率为98.72%,且吸收峰的位置随d A增大向长波方向移动。含金属银缺陷光子晶体的光吸收特性,可为新型光学吸收器、太阳能电池、滤波器和全反射器等材料研究和选择提供理论参考。

原子氧对金属银和有机防护涂层的侵蚀

用光电子能谱(XPS)和扫描电镜(SEM)观测了在模拟原子氧(AO)环境中Ag及在其表面涂覆的有机防护层的表面,研究了表面的形貌和质量损失.结果表明,AO对Ag有较严重的侵蚀作用,使原来光亮的表面失去光泽,变得粗糙;采用环氧树脂、聚胺脂或醇酸树脂作为防护涂层,AO辐照后其表面形貌也发生了较大变化,表明腐蚀严重;采用有机硅作为涂层,被AO侵蚀后其表面形貌的变化甚小,质量损失较小,表明这种涂层具有较明显的防护效果.经AO辐照后有机硅涂层表面生成了致密的氧化硅膜层,对抑制AO的进一步侵蚀具有关键作用.

硫化银碱性水浆直接加氢还原制备金属银

提出了一种新的从硫化银直接制备金属银的湿化学方法. 采用硫化银的碱性水浆在高压釜中直接加氢进行还原. 借助XRD, SEM和化学反应分析等手段, 对硫化银浆化氢还原过程中的影响因素进行了研究. 结果表明： 通过添加少量的催化剂和适量的ZnO作为还原助剂, 硫化银在220 ℃, Ph≈12, PH2=2～3 Mpa的条件下反应4 h, 其中银的还原率可以达到95%左右. 所得的产物是呈分散状态的粉体.

微接触印刷法构造金属银的二维和准三维微图纹结构

以聚二甲基硅氧烷(PDMS)有机硅橡胶为弹性印章,以十八烷基三氯硅烷(OTS)正已烷溶液为“墨水”,用微接触印刷分别在普通盖玻片表面和直径为20mm的试管外表面直接盖印,以及在直径为10mm的玻璃棒表面进行滚动式微接触印刷盖印.将这些盖好印的基材放在化学镀银液中进行选择性镀银沉积,得到金属银在平面上的二维微结构和在曲面上的准三维微结构.这些微结构的显微照片显示,采用微接触印刷法制备的微图纹结构,图纹转移效率高,精细度很好,特别是微接触印刷操作方法灵活多变,适用于多种形态的表面,是一类实用的微制造方法.

金属银在高升温速率下的熔化和过热行为

采用分子动力学方法和QSC(quantumsutton-chen)力场研究了升温速率对金属银的熔化和过热行为的影响.模拟中考虑了缺陷和表面对熔化和过热行为的影响.研究结果表明,升温速率对金属银的熔化和过热行为有很大影响,随着升温速率的升高,金属银的熔点有所升高.高的升温速率会导致金属银体系内部无序化程度增加,降低了熔化相变的能垒.升温速率导致的银完美晶体的过热极限大约为1450K.

过渡金属银配体簇化合物的质谱分析

用基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱 (MALDI TOF MS)测定含有过渡金属银配位的簇类化合物苯乙炔基银的结构及其聚合度 ,比较了线性 (linear)和反射 (reflectron)飞行时间质谱各自的特点 ,探讨了银10 7Ag、10 9Ag两种同位素在质谱中的贡献及其表现。

在单分子膜上电沉积金属银膜

以在气/液界面和气/固界面上形成的硬脂酸单分子膜为基底电沉积金属银薄膜.改变电沉积条件,得到了具有不同微观结构、光亮、细致的纳米金属银薄膜.当底相硝酸银溶液的pH值低于7时,在气/液界面没有银膜形成,只在银丝的尖端生成棕黑色的粉末;提高镀液的pH值有利于银的沉积,且硬脂酸分子排列得越紧密,成膜性越好.随着槽电压的升高,银膜的沉积速度逐渐增大,其微观结构从树叶状逐渐向鹿角状变化.根据电沉积银薄膜的规律,分析了在单分子膜上电沉积银的生长机制,认为单分子膜及其界面的双电层结构是沉积银膜的必要条件.

电解法从废定影液中回收金属银

介绍了电解法从废定影液中回收金属银的反应原理、仪器装置、工艺流程及操作方法。

从废定影液中回收金属银的实验设计

通过沉淀灼烧法、铁片高温置换法、Na2S2O4还原法、NaBH4还原法和电解法从废定影液中回收金属银的实验,让学生从实验结果中分析、判断、研究和选择其中的最佳方法。从而培养学生的实验能力、分析问题和解决问题的能力。

电感耦合等离子体质谱法分析高纯金属银中痕量杂质元素

高纯金属纯度分析时为了克服基体效应的影响,常采用分离基体的方法对其中痕量杂质元素进行分析测定,不仅前处理过程较为复杂,且易造成样品污染。实验以硝酸（1＋1）溶解样品,在利用电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）半定量法确定高纯银中杂质种类的基础上,通过选择适当的同位素克服了质谱干扰,采用标准加入法绘制校准曲线,在不分离基体的前提下消除了银基体对痕量杂质元素测定的基体效应影响,最终实现了ICP-MS对高纯金属银中铅、砷、铜、镍、锑、锡、钯、铋8种痕量金属杂质的直接定量测定。同时在采用ICP-MS法对高纯金属银中8种痕量金属杂质元素测定后,可根据国标方法GB/T 21198.5—2007中差减法最终计算得到银的纯度。方法的检出限为0.09～1.1μg/L,将实验方法应用于高纯金属银的实际样品分析,加标回收率为96%～106%,相对标准偏差（RSD,n=6）不大于5.0%。

质量平衡法测定金属银纯度的不确定度评定

采用质量平衡法对金属银纯度定值。选择电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定了金属银中9种痕量金属杂质含量,按照CNAS-GL006:2018《化学分析中不确定度的评估指南》中有关规定分别评定了9种金属杂质的不确定度,不确定度主要来源于样品称量、标准溶液和样品稀释制备、工作曲线拟合及测量重复性等,以9种杂质的合成不确定度分量作为金属银纯度的不确定度。金属银纯度定值结果为(99.637±0.026)%(95%置信水平,k=2)。

氧化银、溴化银与金属银的分离测定

在2％硫酸,2％硫代硫酸钠及1:1硫酸介质中,选择溶解氧化银、溴化银及金属银,提出了废胶卷处理物料银灰及银泥中氧化银、溴化银及金属银的相分析流程。

贵金属银的再生回收技术

银在各个部门的用途不断扩大,用量逐年增加,矿产提银的产量虽逐年增长亦不能满足需要,供需矛盾日趋尖锐,经预测21世纪资源危机将比能源危急还严重。据报导1982年世界各国照相工业总用银量为199百万盎司。

关于纺织品中金属银镀膜纤维银含量检测方法的探讨

利用X射线荧光光谱仪进行快速筛选金属银镀膜纤维,并用扫描电镜对金属银镀膜纤维加以佐证。经微波消解法溶解后,用电感耦合等离子体发射光谱对其进行定量分析研究,为了验证该方法的准确性,随机取3种样品,分别在其中加入适量浓度的标准物质。每个浓度各制备6个平行样品,测得元素的回收率在91.13%～112.67%、精密度在1.7%～4.1%之间。

中频炉不能熔化金属银的原因分析

分析了中频炉不能熔化金属银的原因．指出中频电源能否全功率运行取决于负载阻抗与中频电源阻抗匹配，并提出了解决的办法。

用O3溶液浸出金属银

在室温及低H2SO4浓度（〈0.1mol／L）的条件下，可用O3溶液从金属废料中浸出金属银。该过程的主要副产物是O2，它可通过生成O3加以回收或在预处理步骤中用作浸出剂。试验对化学计量法和搅拌速度、臭氧和酸浓度及温度对浸银过程的影响进行了考察。在10^-3～1mol／L H2SO4浓度范同内，银以Ag^2＋离子的形式溶解在溶液中，但在pH≥4的情况下．不溶的Ag2O2则是反应的主要产物。

金属银二硫化钼插层复合材料的制备方法

本发明公开了一种金属银二硫化钼插层复合材料的制备方法。该方法是一种基于高分子保护条件下的金属单质的插层方法，即先将聚合物与含有金属离子的水溶液混合形成均匀的溶胶体系，然后将溶胶插入到单层二硫化钼层间，最后对金属离子进行还原处理即得到含高分子和金属单质的二硫化钼插层复合材料。

Roland金属银墨水喷／切一体机XC-540MT

Roland公司宣布推出配备金属银ECO—SOLMAX墨水的新型号喷／切一体机——XC-540MT。 XC-540MT是全球首台专门为配备金属银墨水而设计的喷／切一体机，提供六色CMYK＋金属银＋白墨打印，具兼容乙稀基、PET、油画布、白纸、透明薄膜和条幅等能力的金属银墨水，能按需做专色打印，或与XC-540MT的CMYK＋白墨组合成如金、银或珠光等金属原色彩。

加拿大利用金属银涂层开发玻璃新功能

你能想像起居室的大落地窗可能成为一个巨大的恒温调节器或者电视屏幕吗？加拿大不列颠哥伦比亚大学（UBC）科学家正在使这一想象成为现实。